盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司近日宣布第一臺(tái)Ultra C 12英寸單片兆聲波清洗設(shè)備已經(jīng)銷售給韓國(guó)存儲(chǔ)器制造巨頭。采用盛美的空間交變相移兆聲波技術(shù)(SAPS),Ultra C無(wú)需用高濃度的化學(xué)藥液,而是采用極低濃度的功能水即可實(shí)現(xiàn)優(yōu)越的顆粒去除率(PRE),并且使材料的流失降到最低。該設(shè)備將用于客戶最先進(jìn)器件的制造工藝上,該設(shè)備現(xiàn)已運(yùn)出,最終驗(yàn)收預(yù)計(jì)在近期完成。
這是中國(guó)本土的半導(dǎo)體設(shè)備廠商第一次能夠進(jìn)入國(guó)際主流半導(dǎo)體廠商的供應(yīng)鏈中,而且還是對(duì)新工藝新技術(shù)最最敏感的存儲(chǔ)器廠商,就更加不容易。相信進(jìn)入這家存儲(chǔ)巨頭的供應(yīng)鏈以后,會(huì)有更多國(guó)際半導(dǎo)體制造商敢于采用來(lái)自這家公司的設(shè)備,而中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的最大短板——半導(dǎo)體制造設(shè)備終于有了巨大的突破。
Ultra C定位于高端的清洗工藝。通過(guò)客戶端大生產(chǎn)線驗(yàn)證,Ultra C清洗后的PRE在65nm及以上顆粒達(dá)到96%,在44nm至65nm顆粒之間PRE達(dá)到74%,單道清洗后的材料損失控制在0.2 Å之內(nèi),而競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手只能做到PRE在65nm及以上顆粒做到84%,44nm至65nm顆粒之間僅為13%,清洗效果顯著優(yōu)于其它與之競(jìng)爭(zhēng)的技術(shù)。在45nm技術(shù)節(jié)點(diǎn),Ultra C的單道清洗將生產(chǎn)良率提高了1.3%。
對(duì)于大型半導(dǎo)體制造公司來(lái)說(shuō),每提高1%的良率都可增加一億美元的凈收入,所以Ultra C給客戶帶來(lái)的巨大良率提升是盛美能夠打入半導(dǎo)體巨頭設(shè)備供應(yīng)鏈的根本原因,因?yàn)榘雽?dǎo)體制造企業(yè)對(duì)于設(shè)備的采購(gòu)與更改供應(yīng)商會(huì)極端謹(jǐn)慎,如果沒(méi)有巨大的技術(shù)創(chuàng)新,你不可能說(shuō)服他們更改設(shè)備供應(yīng)商。盛美的創(chuàng)始人及CEO王暉說(shuō),“這臺(tái)訂單證明市場(chǎng)認(rèn)可了我們的SAPS清洗技術(shù),越小器件的技術(shù)節(jié)點(diǎn)對(duì)材料流失的工藝參數(shù)要求越高,并且影響最終良率的特征顆粒尺寸趨小,因而更難以清洗。我們的SAPS聲波清洗技術(shù)已被半導(dǎo)體制造業(yè)巨頭接受,成為去除這些納米級(jí)顆粒的可行方案。在45nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn),Ultra C將成為取代現(xiàn)有清洗技術(shù)的突破性技術(shù)?!?盛美擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的技術(shù)“SAPS”可以控制兆聲波能量在硅片面內(nèi)以及硅片到硅片之間的非均勻度都小于2%。而目前在市面上的單片兆聲波清洗設(shè)備只能控制兆聲波能量非均勻度在10-20%。
同時(shí),盛美也推出了其無(wú)應(yīng)力拋光集成設(shè)備(the Ultra iSFP)。該設(shè)備能夠?qū)?5nm及以下的銅互聯(lián)結(jié)構(gòu)進(jìn)行無(wú)應(yīng)力、無(wú)損傷拋光。該設(shè)備整合了無(wú)應(yīng)力拋光技術(shù)(SFP)、熱氣相蝕刻技術(shù) (TFE)以及低下壓力化學(xué)機(jī)械平坦化技術(shù)(ULDCMP),利用其各自獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)點(diǎn),確保在整個(gè)拋光過(guò)程中對(duì)銅互連結(jié)構(gòu)無(wú)任何損傷。使用無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備制造以二氧化硅(SiO2)為基體的空氣穴互連結(jié)構(gòu)有諸多優(yōu)點(diǎn)。其工藝簡(jiǎn)單,可以使用傳統(tǒng)的二氧化硅介電質(zhì)及大馬士革工藝,因此不需要開(kāi)發(fā)新材料和新工藝。該工藝對(duì)于窄的銅線和極小的互聯(lián)結(jié)構(gòu)沒(méi)有任何損傷,具有自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)功能,不需要硬光掩膜,并只在小線距區(qū)域選擇性的形成空氣穴,而不在大線距區(qū)域形成空氣穴,這樣既能在小線距區(qū)域提供低于2.2的有效超低k特性,又能給互連結(jié)構(gòu)提供出色的機(jī)械強(qiáng)度及良好的散熱特性,以此抵擋封裝時(shí)帶來(lái)的機(jī)械壓力,并解決器件運(yùn)行時(shí)的發(fā)熱問(wèn)題?!盁o(wú)應(yīng)力拋光技術(shù)的問(wèn)世代表著銅/超低k介質(zhì)互聯(lián)的整合工藝取得了重大突破,特別是在以二氧化硅(SiO2)為基體的空氣穴互聯(lián)結(jié)構(gòu)的應(yīng)用解決了三維封裝TSV遇到的發(fā)熱難題?!蓖鯐熝a(bǔ)充道。據(jù)悉,盛美所掌握的是獨(dú)家技術(shù),目前在全世界無(wú)直接競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,連應(yīng)用材料公司等世界前三大半導(dǎo)體設(shè)備商和IBM和Intel等公司都未能掌握。
這樣一家在技術(shù)上非常有特色的公司,有怎么的背景呢?盛美半導(dǎo)體設(shè)備有限公司于1998年在美國(guó)硅谷創(chuàng)立,致力于無(wú)應(yīng)力拋光(Ultra SFP™)和電化學(xué)鍍銅(Ultra ECP™)技術(shù)的研究開(kāi)發(fā)。在2006年9月,將公司研發(fā)中心遷至亞洲,與上海風(fēng)投合作成立子公司盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司,坐落于上海市張江高科技園區(qū)。盛美為其核心技術(shù)、系統(tǒng)架構(gòu)與制程、互連架構(gòu)及整合制程工藝都申請(qǐng)了全球性的知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù),已獲得60項(xiàng)專利并另有80項(xiàng)在申請(qǐng)中,形成了完善的排他性專利保護(hù)。談到回國(guó)創(chuàng)業(yè)的初衷,盛美的創(chuàng)始人及CEO王暉坦言:“這與整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的轉(zhuǎn)移有關(guān),因?yàn)榘雽?dǎo)體的制造代工業(yè)已經(jīng)主要轉(zhuǎn)移到亞洲地區(qū),所以硅谷已經(jīng)不具有那種產(chǎn)業(yè)集中的優(yōu)勢(shì),風(fēng)險(xiǎn)投資也對(duì)制造設(shè)備企業(yè)沒(méi)有興趣,因?yàn)椴辉倬哂惺袌?chǎng)想象空間。而在東亞地區(qū),半導(dǎo)體制造業(yè)方興未艾,這就有了制造設(shè)備企業(yè)的生存和發(fā)展空間,而且國(guó)內(nèi)的政府對(duì)這些上游產(chǎn)業(yè)非??粗?,所以能夠得到不少政策扶植和資本投資,而且中國(guó)大陸人力資源豐富,對(duì)我們公司的研發(fā)也很有幫助。而上海正好處于整個(gè)東亞的中心位置,去韓國(guó)、日本、臺(tái)灣和東南亞各地的距離都差不多,可以極好滿足我們的出行便利?!边@家在美國(guó)成立,而在大陸運(yùn)營(yíng)的半導(dǎo)體設(shè)備公司,經(jīng)過(guò)十幾年的默默耕耘,終于獲得了市場(chǎng)和客戶的認(rèn)可,相比其他芯片設(shè)計(jì)公司,這個(gè)周期似乎是太長(zhǎng)了。對(duì)此,某業(yè)內(nèi)資深人士認(rèn)為:“半導(dǎo)體制造設(shè)備行業(yè)是一個(gè)高門檻,長(zhǎng)周期和技術(shù)密集型的產(chǎn)業(yè),進(jìn)入門檻很高,但是一旦在市場(chǎng)站住腳,客戶就會(huì)非常穩(wěn)定。這個(gè)行業(yè)對(duì)成本不敏感,但對(duì)技術(shù)的可靠性要求極高,所以大陸廠商在這個(gè)行業(yè)沒(méi)有什么優(yōu)勢(shì)。要在這個(gè)行業(yè)立足只有靠自己的技術(shù)積累以及突破性創(chuàng)新,這就需要企業(yè)能夠耐得住寂寞,進(jìn)行多年的研發(fā),而在人心浮躁講究賺快錢的中國(guó)大陸,能夠如此沉下心來(lái)搞研發(fā)的企業(yè)實(shí)屬鳳毛麟角?!?
“目前中國(guó)大陸地區(qū)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上約有500多家芯片設(shè)計(jì)公司,20多家芯片代工廠,以及測(cè)試廠與封裝廠若干,惟獨(dú)缺少設(shè)備制造公司?!敝袊?guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)有關(guān)人士表示,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司的成功運(yùn)作將對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備工業(yè)發(fā)展起到良好的推動(dòng)作用:其一,這家中國(guó)公司將打破國(guó)際壟斷,并成為一個(gè)世界級(jí)水平的半導(dǎo)體設(shè)備制造商,使上海的芯片產(chǎn)業(yè)鏈更為完善和牢固;其二,該公司將帶動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體零組件﹑耗材與軟件產(chǎn)業(yè)的發(fā)展;其三,盛美如果成功,將為其它半導(dǎo)體設(shè)備商樹(shù)立典范,紛紛至中國(guó)設(shè)立研發(fā)中心﹑全球制造中心與亞洲服務(wù)、支持中心,以爭(zhēng)取市場(chǎng)先機(jī),就像當(dāng)年中芯國(guó)際促使臺(tái)積電、臺(tái)聯(lián)電赴中國(guó)設(shè)廠一樣。
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