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35 point發(fā)布SVR蝕刻模塊 中國晶圓廠進軍MEMS市場露苗頭

全球各行業(yè)籠罩在金融危機的陰霾之下,MEMS市場也不例外。消費電子類應用占據(jù)MEMS市場超過50%的比重,而金融危機嚴重沖擊了消費電子產品的銷量,間接影響了MEMS市場。

全球各行業(yè)籠罩在金融危機的陰霾之下,MEMS市場也不例外。消費電子類應用占據(jù)MEMS市場超過50%的比重,而金融危機嚴重沖擊了消費電子產品的銷量,間接影響了MEMS市場?!安贿^金融危機對MEMS市場的沖擊微乎其微,”調研機構The information network認為,“新興市場的崛起會填補消費電子衰退的缺口?!? 此外,該調研機構還指出MEMS市場將從2008年的78億快速增長,至2012年該市場幾乎翻番,達到154億。而目前鮮有晶圓廠的產線是專為MEMS設計的,大部分晶圓廠采用現(xiàn)有的設備進行MEMS生產制造。MEMS的部分制造確實可以采用現(xiàn)有的設備進行,例如光刻、薄膜氣相沉積;但部分工藝制程必須使用特殊的制造設備,例如反應離子深蝕刻、等向性蝕刻、抗靜摩擦薄膜等。針對晶圓制造產業(yè)缺少相應MEMS制造設備的現(xiàn)狀,Point 35 Microstructures推出氣相氧化物釋放蝕刻模塊填補該領域的空白。該公司銷售總監(jiān)Tony Mckie表示,“汽相工藝對MEMS制造起著至關重要的作用,而我們提供SVR工藝組合支持氧化物和硅釋放技術?!? 與傳統(tǒng)基于濕法化學的蝕刻工藝相比,SVR蝕刻方法可以完全取出材料而不損壞機械結構或產生黏附問題,而且還具有高度的可選擇性、可重復性以及均勻性。SVR保留了干燥的表面,沒有任何殘留物或水汽,省去了包含在濕法工藝中的表面準備、引入酸、中和以及隨后的干燥等步驟。此外,SVR與CMOS制程兼容,這一優(yōu)勢令MEMS器件的生產猶如傳統(tǒng)集成電路。此次發(fā)布的新模塊SVR-vHF可以在SVR工藝中的等向性蝕刻流程實現(xiàn)上述SVR優(yōu)點,即完整取出材料、避免黏附,從而提高器件的良率以及性能表現(xiàn)。 另外,Tony特別指出,該國內公司MEMS單晶圓制造系統(tǒng)Memssstar可以覆蓋從設計研發(fā)到產品量產的全面需求,經過更換模塊就能輕松實現(xiàn),為研發(fā)到量產節(jié)省重新購置機臺的費用?!敖衲?月,將有一臺Memsstar機臺進入中國晶圓廠?!盩ony最后留給大家一個懸念,他沒有透露是哪個晶圓制造商,但Memsstar進入中國顯示了中國晶圓廠在MEMS市場開始有所布局。
責編:Quentin
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