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三星2nm工藝最新進展詳情:或采用BSPDN技術(shù),晶體管密度高于臺積電

近日,據(jù)國外媒體報道,三星電子采用全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝,已在6月30日開始初步生產(chǎn)芯片,所代工的首批晶圓,在7月25日正式發(fā)貨。在3nm制程工藝開始量產(chǎn)之后,三星電子芯片制程工藝研發(fā)的重點,就將集中在更先進的2nm制程工藝上。

近日,據(jù)國外媒體報道,三星電子采用全環(huán)繞柵極晶體管架構(gòu)的3nm制程工藝,已在6月30日開始初步生產(chǎn)芯片,所代工的首批晶圓,在7月25日正式發(fā)貨。在3nm制程工藝開始量產(chǎn)之后,三星電子芯片制程工藝研發(fā)的重點,就將集中在更先進的2nm制程工藝上。ijYesmc

對于三星電子的2nm制程工藝,有外媒在報道中稱,他們正計劃將背面供電網(wǎng)絡(luò) (BSPDN) 這一技術(shù),用于2nm制程工藝。ijYesmc

從外媒的報道來看,三星的研究員Park Byung-jae,在上周的SEDEX 2022上就介紹了這一技術(shù),他表示在晶圓代工方面,技術(shù)從高k金屬柵極平面FET發(fā)展到FinFET(鰭式場效應(yīng)晶體管),再到MBCFET(多橋通道場效應(yīng)晶體管),現(xiàn)在則是BSPDN。ijYesmc

不過,與10nm制程工藝開始采用的FinFET和3nm制程工藝開始采用的MBCFET技術(shù)不同,背面供電網(wǎng)絡(luò)并不是晶體管架構(gòu)技術(shù),它是將供電網(wǎng)絡(luò)從前端移動移到后端的技術(shù),利用芯片的背面。ijYesmc

背面供電網(wǎng)絡(luò)技術(shù),最初是在2019年作為一種概念推出的,而在2021年,公開的一篇有關(guān)2nm制程工藝技術(shù)的論文中,引用了這一技術(shù)。ijYesmc

論文的數(shù)據(jù)表明,同當(dāng)前普遍的供電網(wǎng)絡(luò)布局方式相比,采用背面供電網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的2nm制程工藝,可使芯片的性能提升44%,能效提升30%。論文還指出,將供電網(wǎng)絡(luò)等功能移至芯片的背面,能解決僅使用正面造成的布線堵塞問題。ijYesmc

三星2nm工藝的量產(chǎn)時間預(yù)計在2025年,時間點與臺積電量產(chǎn)2nm工藝差不多,而且很可能在技術(shù)上領(lǐng)先后者,因為臺積電的2nm工藝在晶體管密度上提升只有10%。ijYesmc

責(zé)編:Editordan
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