英特爾IDM2.0戰(zhàn)略啟動(dòng)之后，不僅重塑了工藝路線圖，也加快了光刻機(jī)引進(jìn)和芯片工廠的進(jìn)程。據(jù)報(bào)道，Intel采購(gòu)的十億美金光刻機(jī)開始進(jìn)駐，4nm量產(chǎn)時(shí)間將在今年下半年。C21esmc
根據(jù)Intel之前公布的路線圖，Intel4工藝會(huì)是他們首個(gè)使用EUV光刻機(jī)的工藝，下半年量產(chǎn)，他們從ASML購(gòu)買的EUV光刻機(jī)現(xiàn)在正式開始在愛(ài)爾蘭的工廠安裝，這是Intel第二個(gè)、歐洲首個(gè)EUV工藝晶圓廠。C21esmc
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Intel前幾年就在愛(ài)爾蘭的Fab 34晶圓廠投資70億美元升級(jí)，主要是為Intel 4工藝準(zhǔn)備的，原先該工藝是7nm，去年改名之后就等效于其他廠商的4nm EUV工藝了，也是Intel首個(gè)使用EUV光刻機(jī)的工藝。C21esmc
今年1月底，Intel就在Fab 34晶圓廠安裝了光刻膠顯影設(shè)備(lithography resist track)，不過(guò)它還不是真正的EUV光刻機(jī)，現(xiàn)在才開始安裝EUV光刻機(jī)，要為下半年的量產(chǎn)做準(zhǔn)備了。C21esmc
根據(jù)Intel公布的視頻，目前約有100多名ASML的工程師進(jìn)駐工廠協(xié)助安裝，同時(shí)Intel也從美國(guó)俄勒岡州的工廠中派來(lái)了工程師培訓(xùn)愛(ài)爾蘭當(dāng)?shù)氐膯T工，教導(dǎo)他們使用EUV光刻機(jī)。C21esmc
Intel沒(méi)有公布這款光刻機(jī)的具體型號(hào)，不過(guò)ASML最新的EUV光刻機(jī)超級(jí)貴，均價(jià)10億美元左右，先進(jìn)工藝晶圓廠的投資都是幾十億美元甚至上百億美元級(jí)別的。Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工藝(10nm ESF)，Meteor Lake 14代酷睿和代號(hào)Granite Rapids的下下代至強(qiáng)都將用上Intel 4工藝，今年下半年就要量產(chǎn)，不過(guò)14代酷睿上市還要到2023年。C21esmc
責(zé)編：Editordan
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