3月8日晚間,上海新陽半導(dǎo)體發(fā)布公告,稱其購買的了ASML-1400光刻機(jī)設(shè)備已順利交付。mNAesmc
上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司(以下簡稱“公司”)自立項(xiàng)開發(fā)193nm ArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目以來,就安排購買了ASML-1400光刻機(jī)等核心設(shè) 備,并于2020年12月14日在《關(guān)于公司申請(qǐng)向特定對(duì)象發(fā)行股票的審核問詢函的 回復(fù)》中披露,該光刻機(jī)將于2020 年底前運(yùn)抵國內(nèi)。后由于公司與光刻機(jī)供應(yīng)商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司(以下簡稱“合作方”)溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運(yùn)輸與安裝等細(xì)節(jié),致使設(shè)備沒能在規(guī)定時(shí)間內(nèi)運(yùn)達(dá)。mNAesmc
現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運(yùn)作,該光刻機(jī)設(shè)備于今日已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地,后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。mNAesmc
公司采購的ASM干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付,對(duì)加快193nm ArF 干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進(jìn)度有積極影響,有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力,加快落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略,提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。mNAesmc
不過該光刻機(jī)尚須經(jīng)過裝機(jī)、調(diào)試等相關(guān)環(huán)節(jié),若相關(guān)環(huán)節(jié)出現(xiàn)工作疏漏或失誤則存在造成所購買的光刻機(jī)投入使用的過程較長甚至無法投入使用的風(fēng)險(xiǎn)。mNAesmc
光刻膠研發(fā)項(xiàng)目技術(shù)壁壘高、周期長、至產(chǎn)業(yè)化并最終實(shí)現(xiàn)銷售利潤仍需一定時(shí)間,而公司購買的光刻機(jī)設(shè)備價(jià)格昂貴,其折舊及后續(xù)維護(hù)費(fèi)用預(yù)計(jì)對(duì)公司的經(jīng)營業(yè)績存在一定影響。mNAesmc