在我們談到半導(dǎo)體制造的尖端工藝時,總在說 10nm、7nm,那么所謂的 10nm、7nm 究竟是指的晶體管的哪個部分呢?有人說是晶體管間距,有人說是晶體管柵的長度,事實真的是如此嗎?Vj7esmc
來自面包板社區(qū)的明星博主——歐陽洋蔥就這一角度發(fā)表了自己的見解。Vj7esmc
其實我之前發(fā) 7nm 工藝介紹相關(guān)的文章的時候,就提到過:我們說 7nm 工藝,那 7nm 這數(shù)字究竟還存在毛意義?它大概除了用于表現(xiàn)在市場上某一個工藝節(jié)點,數(shù)字本身已經(jīng)沒有任何意義了。至少,臺積電、三星的 7nm 節(jié)點上,晶體管并不存在任何一個物理參數(shù)是 7nm 的。那它有什么資格叫 7nm 呢?Vj7esmc
原本針對這一點,我也挺想花時間去研究一下的。不過前一陣發(fā)現(xiàn) Linus Tech Tips 對此專門發(fā)表了一則視頻,我覺得講的特別清楚。這則視頻內(nèi)容構(gòu)成,也獲得了 Intel 兩名工程師的協(xié)助。作為一名稱職的搬運工,我將此視頻的內(nèi)容做濃縮,有興趣的還是也可以去看看原視頻。Vj7esmc
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在 1997 年以前,幾點幾微米,或者幾百納米,那的的確確是指的晶體管上面的 gate 的長度(gate 在大陸叫做柵,在臺灣叫做閘,我個人覺得閘是個明顯更好的譯法),注意是長度(圖上標(biāo)的 Lg,當(dāng)然了,這已經(jīng)是 FinFET 結(jié)構(gòu)了,但大致意思不變)。Vj7esmc
而在 1997 年以前,工藝數(shù)字的步進(jìn)是以每代是上一代的 0.7 倍為節(jié)奏的,因為 0.7x0.7 約等于 0.5,也就是晶體管整體面積相比上一代縮小一倍——就是當(dāng)年摩爾定律所說,工藝迭代面積小一倍,性能增一倍。當(dāng)時的工藝在 350nm,也就是 0.35μm。Vj7esmc
1997 年以后,gate 長度的縮減速度更快了——至少快于 0.7 倍步進(jìn)這個節(jié)奏,但晶體管的其他部分尺寸卻未能按照這么快的速度去減小。所以 gate 長度這個時候?qū)τ诤饬烤w管尺寸的意義已經(jīng)沒那么大了。后續(xù)的工藝節(jié)點數(shù)字,命名開始逐步用于反映一組晶體管構(gòu)成的單元尺寸(而且通常是最高密度單元庫),即便單元本身的尺寸和這個數(shù)字相去甚遠(yuǎn)。Vj7esmc
奔騰 3 處理器的 250nm 即是這種規(guī)則下的數(shù)字,這個數(shù)字本身實際上大約是上一代 350nm 的 0.7 倍。因為這代工藝的性能大約等于上一代的兩倍——所以取 0.7 倍這個數(shù)字也是十分合理的(假裝面積也小一倍)。但 250nm 節(jié)點的 gate 長度實則大約為 190nm,而不是 250nm。Vj7esmc
2012 年,22nm 節(jié)點問世,隨即而來的是一種新型的晶體管,也就是 FinFET。這種 3D 結(jié)構(gòu),要用一個數(shù)字來衡量尺寸的難度其實就更大了。但業(yè)界仍然在遵循 0.7 倍的命名原則,包括 14nm、10nm。到這一時期,這些數(shù)字就幾乎不存在任何實際意義了——或者說,其實際意義顯然已經(jīng)不大了。Vj7esmc
所以看我之前寫的 7nm 工藝的文章中,你就會發(fā)現(xiàn),現(xiàn)在的晶體管,并不存在任何一個組成部分的長寬高是 7nm。Vj7esmc
而實際上,如果我們要追求晶體管上某部分參數(shù)的最小值,恐怕可以看一看 fin 寬度。比如 Intel 的 10nm 工藝,晶體管的 fin 寬度為 7nm——恐怕是整個晶體管上,與 10nm 這個名義上的值最接近的部分了。而其他組成部分的差距就比較大了,比如說相鄰 fin 間距是 34nm,gate 長度是 18nm,gate 間距是 36nm 等等。Vj7esmc
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來源:IntelVj7esmc
不同芯片制造商,針對這個數(shù)字節(jié)點的態(tài)度是不一樣的。所以臺積電、Intel 之間的這個節(jié)點數(shù)字就不能直接比較,這個想必很多同學(xué)是知道的。比如我們一般認(rèn)為 Intel 的 10nm 與臺積電的 7nm 屬于同代工藝;而三星規(guī)劃中的 4nm 工藝,在晶體管密度上實則可能還比不上 Intel 的 7nm。Vj7esmc
現(xiàn)在應(yīng)該考慮一些更重要的參數(shù),包括晶體管密度,以及材料方面的提升用以加強(qiáng)性能,還有結(jié)構(gòu)上的提升,讓電子通過地更快。這些其實在節(jié)點數(shù)字上不會表達(dá)出來,典型如 high-k metal gate、FinFET 結(jié)構(gòu)本身之類的。Vj7esmc
有關(guān)這部分,歡迎參考我整理的另一篇文章《為什么說Intel的10nm工藝比別家7nm更先進(jìn)?(上)》,能夠更好地理解,不同半導(dǎo)體工廠在工藝宣傳上的差別。Vj7esmc
所以別再說出,14nm 是 7nm 兩倍(或者面積是 4 倍)這種話了。Vj7esmc
[2] 更多參考:Intel's 10nm Cannon Lake and Core i3-8121U Deep Dive Review - AnandTechVj7esmc
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