緊隨全球經(jīng)濟運行軌跡,半導體產(chǎn)業(yè)保持著“震蕩向上”的發(fā)展走勢。2016-2018年,全球半導體實現(xiàn)了20%以上的空前增長。如今,5G、人工智能、互聯(lián)網(wǎng)、大數(shù)據(jù)、云計算等新技術大量涌現(xiàn),急需新的應用市場來承載。而智能汽車,絕對是承載這些新技術的關鍵應用之一。N1tesmc
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華虹宏力戰(zhàn)略、市場與發(fā)展部科長李健N1tesmc
4月11日,在“第八屆年度中國電子ICT媒體論壇暨2019產(chǎn)業(yè)和技術展望研討會”上,華虹宏力戰(zhàn)略、市場與發(fā)展部科長李健分享了電動汽車的歷史“芯”機遇。N1tesmc
新能源汽車放量 功率器件迎“第二春”
“自2017年開始,智能手機已顯疲態(tài),半導體產(chǎn)業(yè)急需新的市場應用拉動業(yè)績上揚,而能夠擔任多技術融合載體重任的當屬智能汽車。”李健分析稱,汽車“電子化”大勢所趨,從汽車成本結(jié)構(gòu)來看,未來芯片成本有望占汽車總成本的50%以上,這將給半導體帶來巨大的市場需求。 N1tesmc
當傳統(tǒng)的汽車制造業(yè)遇到當今的半導體,就像千里馬插上翅膀,會變成下一個引領浪潮的“才子”。李健表示,半導體為智慧汽車帶來冷靜的頭腦,如自動駕駛處理器、ADAS芯片等,同時也帶來更強壯的肌肉,讓千里馬跑得更快,即大量的功率器件,如MOSFET。N1tesmc
據(jù)了解,2020年,國內(nèi)新能源車的銷售目標為200萬臺(全球為700萬臺)。有別于傳統(tǒng)汽車,新能源車配有電機、電池、車載充電機、電機逆變器和空調(diào)壓縮機等,這都需要大量的功率器件芯片。“電動化”除了車輛本身的變化之外,還給后裝零部件帶來新需求,同時配套用電設施,如充電樁,也帶來大量的功率器件需求。N1tesmc
電動汽車中功率芯片的用途非常廣泛,如啟停系統(tǒng)、DC/DC變壓器、DC/AC主逆變器+DC/DC升壓,包括發(fā)電機、車載充電機等,都要用到功率器件。李健介紹說,以時下炙手可熱的IGBT來說,電動汽車前后雙電機各需要18顆IGBT,車載充電機需要4顆,電動空調(diào)8顆,一臺電動車總共需要48顆IGBT芯片。N1tesmc
“如果2020年國內(nèi)電動汽車銷量達到200萬臺,后裝維修零配件市場按1:1配套計的話,國內(nèi)市場大約需要10萬片/月、8英寸車規(guī)級IGBT晶圓產(chǎn)能(按120顆IGBT芯片/枚折算)。基于國內(nèi)電動車市場占全球市場的1/3,2020年全球汽車市場可能需要30萬片/月、8英寸IGBT晶圓產(chǎn)能!除了汽車市場,IGBT在其它應用也需求旺盛,業(yè)界預估還需要新建十座IGBT晶圓廠。” 李健表示。N1tesmc
站穩(wěn)特色工藝腳跟 施行“8+12”戰(zhàn)略布局
功率器件一直是華虹宏力的核心業(yè)務,主要聚焦在以下4個方面:N1tesmc
- 一是Trench MOS/SGT,即低壓段200伏以下的應用,如汽車輔助系統(tǒng)應用12V/24V/48V等;
- 二是超級結(jié)MOSFET工藝(DT-SJ),涵蓋300V到800V,應用于汽車動力電池電壓轉(zhuǎn)12V低電壓及直流充電樁功率模塊;
- 三是作為電動汽車核心的IGBT,主要是在600V到3300V甚至6500V高壓上的應用,如汽車主逆變、車載充電機等;
- 四是GaN/SiC新材料,未來五到十年,SiC類功率器件會成為汽車市場的主力,主要用于主逆變器和大功率直流快充的充電樁上。
首先來看MOSFET,截至2018年第4季度,華虹宏力8英寸MOSFET晶圓出貨已超過700萬片。據(jù)介紹,在對可靠性要求極為嚴格的汽車領域,華虹宏力的MOSFET產(chǎn)品已通過車規(guī)認證,并配合客戶完成了相對核心關鍵部件如汽車油泵、轉(zhuǎn)向助力系統(tǒng)等的應用。N1tesmc
相比基礎的硅基MOSFET,超級結(jié)MOSFET(DT-SJ)則是華虹宏力功率器件工藝的中流砥柱。超級結(jié)MOSFET最顯著特征為P柱結(jié)構(gòu),華虹宏力采用擁有自主知識產(chǎn)權的深溝槽型P柱,可大幅降低導通電阻,且可大幅降低生產(chǎn)成本和加工周期。超級結(jié)MOSFET適用于500V到900V電壓段,它的電阻更小,效率更高,散熱相對低,所以在要求嚴苛的開關電源里有大量的應用。N1tesmc
其次是硅基IGBT芯片,其在華虹宏力的定位是功率器件的未來。李健認為,硅基IGBT在電動汽車里是核“芯”中的核心,非常考驗晶圓制造的能力和經(jīng)驗。目前,基本上車用IGBT是在600V到1200V電壓范圍。從器件結(jié)構(gòu)來看,IGBT芯片正面類似普通的MOSFET,難點和性能優(yōu)勢在于背面加工工藝。N1tesmc
“IGBT晶圓的背面加工需要很多特殊的工藝制程。以最簡單的薄片工藝來說,8英寸晶圓厚700多微米,減薄后需要達到60微米甚至更薄,不采用特殊設備會彎曲而無法進行后續(xù)加工。華虹宏力擁有背面薄片、背面高能離子注入、背面激光退火以及背面金屬化等一整套完整的FS IGBT背面加工處理能力,使得客戶產(chǎn)品能夠比肩業(yè)界主流的國際IDM產(chǎn)品。” 李健表示。N1tesmc
華虹宏力IGBT相關工藝的量產(chǎn)狀態(tài)為,早期以1200V LPT、1700V NPT/FS為主;目前集中在場截止型工藝上,以600伏和1200伏電壓段為主;未來方向的3300V到6500V高壓段工藝的技術開發(fā)已經(jīng)完成,正與客戶在做具體的產(chǎn)品驗證。N1tesmc
除此,寬禁帶材料如GaN和SiC的發(fā)展備受業(yè)界關注。李健介紹說,寬禁帶材料優(yōu)勢非常明顯,未來10到15年,寬禁帶材料的市場空間非常巨大,但目前可靠性還有待進一步觀察。N1tesmc
從市場應用需求來講,SiC的市場應用和硅基IGBT完全重合,應用場景明確,GaN則瞄準新興領域,如無線充電和無人駕駛LiDAR,應用場景存在一定的變數(shù)。從技術成熟度來講,SiC二級管技術已成熟,MOS管也已小批量供貨。而SiC基GaN雖然相對成熟,但成本高,Si基GaN則仍不成熟。從性價比來講,SiC比較明確,未來大量量產(chǎn)后有望快速拉低成本。而GaN的則有待觀察,如果新型應用不能如期上量,成本下降會比較緩慢。N1tesmc
目前,華虹宏力正通過技術研發(fā),將特色工藝從8英寸逐步推進到12英寸,技術節(jié)點也進一步推進到90納米以下(如65/55納米),以便給客戶提供更大的產(chǎn)能和先進工藝支持。李健表示,公司堅持走特色工藝之路,堅持“8+12”的戰(zhàn)略布局。過去,華虹宏力實現(xiàn)了連續(xù)超過32個季度盈利的成績,華虹宏力將通過12英寸先進技術,延伸8英寸特色工藝優(yōu)勢,提高技術壁壘,拉開與競爭者的差距。 N1tesmc
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