前不久，勞倫斯伯克利國家實驗室的一個團隊打破了物理極限，采用碳納米管復(fù)合材料將現(xiàn)有最精尖的晶體管制程從14nm縮減到了1nm，讓摩爾定律的發(fā)展前景看到了新的希望。最近，這方面的研究又有重大突破。mUVesmc

根據(jù)EE Times報道稱，美國能源部（DOE）下屬的布魯克海文國家實驗室的科研人員日前宣布創(chuàng)造了新的世界記錄，他們成功制造了尺寸只有1nm的印刷設(shè)備，使用還是電子束印刷工藝而非傳統(tǒng)的光刻印刷技術(shù)。

(Source: Brookhaven National Laboratory)mUVesmc

這個實驗室的科研人員創(chuàng)造性地使用了電子顯微鏡造出了比普通EBL（電子束印刷）工藝所能做出的更小的尺寸，電子敏感性材料在聚焦電子束的作用下尺寸大大縮小，達到了可以操縱單個原子的地步。他們造出的這個工具可以極大地改變材料的性能，從導(dǎo)電變成光傳輸以及在這兩種狀態(tài)下交互。

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他們的這項成就是在能源部下屬的功能納米材料中心完成的，1nm印刷使用的是STEM（掃描投射電子顯微鏡），被隔開11nm，這樣一來每平方毫米就能實現(xiàn)1萬億個特征點（features）的密度。通過偏差修正STEM在5nm半柵極在氫氧硅酸鹽類抗蝕劑下實現(xiàn)了2nm分辨率。
(Source: Brookhaven National Laboratory)mUVesmc

這些技術(shù)聽上去激動人心，不過實驗室研發(fā)的技術(shù)并不代表能很快商業(yè)化，布魯克海文實驗室的1nm工藝跟目前的光刻工藝有很多不同，比如使用的是電子束而非激光光刻，所用的材料也不是硅基半導(dǎo)體而是PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）之類的，下一步他們打算在硅基材料上進行嘗試。mUVesmc

這項研究發(fā)布在《納米快報》上，項目資金由美國能源部科學(xué)辦公室提供。mUVesmc

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