根據(jù)TomsHardware報(bào)道，康寧公司與英特爾、臺(tái)積電（TSMC）和三星等全球領(lǐng)先的晶圓代工廠一樣，將從美國(guó)的《芯片與科學(xué)法案》中獲得財(cái)政補(bǔ)貼。根據(jù)上周五的一份公告顯示，康寧與美國(guó)商務(wù)部簽署了初步協(xié)議，根據(jù)該法案，康寧將獲得大約3200萬(wàn)美元的撥款支持。F6pesmc
具體來(lái)說(shuō)，這筆資金將被用于擴(kuò)展康寧在紐約州坎頓的制造設(shè)施，目的是提升高純度熔融石英（HPFS）和Extreme ULE玻璃等關(guān)鍵材料的生產(chǎn)。這些特種玻璃對(duì)于高端芯片制造至關(guān)重要，因?yàn)樗鼈兪巧a(chǎn)光掩模的核心原料，而光掩模在芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色。通過(guò)提高這些材料的生產(chǎn)量，康寧公司將加強(qiáng)其在全球半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈中的地位，并促進(jìn)美國(guó)芯片制造業(yè)的增長(zhǎng)。F6pesmc
Extreme ULE玻璃，作為一種鈦硅酸鹽玻璃材料，以其接近零膨脹的特性而聞名，長(zhǎng)期被用于EUV光掩模和光刻鏡的生產(chǎn)。這種玻璃的極低熱膨脹系數(shù)保證了在EUV環(huán)境下的高一致性。鑒于EUV光刻技術(shù)對(duì)精度和穩(wěn)定性的極高要求，康寧的新玻璃能夠承受高強(qiáng)度的極紫外光，從而顯著提高芯片設(shè)計(jì)和制造的性能。F6pesmc
康寧公司最近在加州蒙特雷舉辦的SPIE光掩模技術(shù)+極紫外光刻會(huì)議上推出了其新一代Extreme ULE玻璃材料。據(jù)透露，這種玻璃材料將助力芯片制造商優(yōu)化光掩模，使其能夠承受高強(qiáng)度的極紫外光（包括High NA EUV），進(jìn)而提高EUV光刻技術(shù)的精度和穩(wěn)定性。F6pesmc
康寧的Extreme ULE玻璃在光掩模和光刻鏡領(lǐng)域的應(yīng)用被認(rèn)為是一個(gè)重大的技術(shù)進(jìn)步，其卓越的熱穩(wěn)定性和接近零的膨脹特性為半導(dǎo)體制造設(shè)定了新的高標(biāo)準(zhǔn)，并將直接影響未來(lái)芯片的生產(chǎn)效率和成本結(jié)構(gòu)。F6pesmc
康寧先進(jìn)光學(xué)副總裁兼總經(jīng)理Claude Echahamian表示：“隨著人工智能的快速發(fā)展，對(duì)集成芯片制造的需求日益增長(zhǎng)，玻璃創(chuàng)新變得前所未有的重要。我們的EXTREME ULE玻璃將通過(guò)支持更高功率的EUV制造和更高的產(chǎn)量，加強(qiáng)康寧在推動(dòng)摩爾定律發(fā)展中的關(guān)鍵作用。”F6pesmc
目前，康寧公司已經(jīng)與美國(guó)商務(wù)部就《芯片和科學(xué)法案》下的撥款達(dá)成了初步協(xié)議。該項(xiàng)目預(yù)計(jì)將對(duì)當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)產(chǎn)生積極影響，預(yù)計(jì)將創(chuàng)造130個(gè)制造業(yè)崗位和超過(guò)175個(gè)建筑業(yè)崗位。F6pesmc
責(zé)編：Elaine
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