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減產(chǎn)/擴(kuò)產(chǎn)?存儲市場釋放新信號

AI市場熱度有增無減,推動存儲器需求水漲船高,高性能HBM、大容量閃存產(chǎn)品備受青睞,近期三星、SK海力士、美光、鎧俠也披露了多個項目最新動態(tài);與此同時,傳統(tǒng)存儲產(chǎn)品卻傳來減產(chǎn)消息。

全球經(jīng)濟(jì)發(fā)展形勢仍不明朗,消費(fèi)電子需求遲遲未見明確復(fù)蘇信號,未來存儲器產(chǎn)業(yè)挑戰(zhàn)依然存在。Ixyesmc

傳統(tǒng)NAND、DDR4等存儲產(chǎn)品或被減產(chǎn)Ixyesmc

存儲市場近期喜憂摻半,據(jù)外媒和存儲廠商最新消息,由于消費(fèi)電子市場復(fù)蘇不及預(yù)期,包括三星、SK海力士、鎧俠開始醞釀減產(chǎn)以應(yīng)對變化。具體減產(chǎn)措施上,三星、鎧俠擬于2025年開始對NAND進(jìn)行減產(chǎn),預(yù)計依照市場況狀進(jìn)行分階段減產(chǎn)。SK海力士則逐步降低DDR4傳統(tǒng)DRAM生產(chǎn)比重,從而將有限產(chǎn)能轉(zhuǎn)向人工智能用存儲器及先進(jìn)DRAM產(chǎn)品。Ixyesmc

三星近期公布了最新的三季度財報,三星官方表示其業(yè)績不及預(yù)期,該部門主管也罕見聲明為業(yè)務(wù)陷入困境致歉。據(jù)悉,三星實現(xiàn)營收79.1萬億韓元,同比增長17.2%;營業(yè)利潤9.18萬億韓元,同比增長274.5%,但環(huán)比下降12.8%,并且該數(shù)據(jù)明顯低于倫敦證券交易所估計的11.456萬億韓元的營業(yè)利潤。Ixyesmc

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圖片來源:三星電子Ixyesmc

三星也在最新的財報電話會議中表示,計劃削減傳統(tǒng)DRAM和NAND閃存的產(chǎn)量。三星設(shè)備解決方案(DS)副總裁KimJae-joon表示,公司正下調(diào)通用DRAM與NAND存儲產(chǎn)品的產(chǎn)量,以符合逐漸下滑的市場需求。行業(yè)人士透露,三星預(yù)計將減少以DDR4為主的產(chǎn)能,把部分DDR4產(chǎn)能轉(zhuǎn)移至DDR5、LPDDR5以及HBM等先進(jìn)產(chǎn)品的生產(chǎn)上。Ixyesmc

針對市場傳聞的在今年四季度減產(chǎn)NAND消息,三星表示公司無意在第四季度減少NAND產(chǎn)量,但將根據(jù)市場情況靈活調(diào)整。據(jù)悉,三星電子已逐步開始對中國西安的NAND閃存工廠生產(chǎn)線舊設(shè)備進(jìn)行銷售,預(yù)計出售過程將于2025年正式開始,其中大部分是100層3D NAND設(shè)備。自去年以來,三星一直致力于將西安工廠的工藝從100層3D NAND升級至200層。Ixyesmc

鎧俠方面,供應(yīng)鏈?zhǔn)袌鲎钚孪@示,為應(yīng)對生成性AI浪潮需求,鎧俠將于2025年大規(guī)模生產(chǎn)第八代NAND設(shè)備,并準(zhǔn)備投產(chǎn)最先進(jìn)存儲產(chǎn)品以及準(zhǔn)備上市等事宜。由于擔(dān)心未來庫存上升,鎧俠計劃在第四季度減少NAND產(chǎn)量,以避免產(chǎn)能過剩問題。對此傳聞,鎧俠并未進(jìn)行回應(yīng)。Ixyesmc

SK海力士方面,據(jù)業(yè)界消息人士本月初透露,將降低其DDR4 DRAM芯片產(chǎn)能。今年第3季度SK海力士DDR4的生產(chǎn)比重已從第2季度的40%降至30%,第4季度更計劃進(jìn)一步降至20%,并將把有限產(chǎn)能轉(zhuǎn)向人工智能用存儲產(chǎn)品及先進(jìn)DRAM產(chǎn)品。對此消息,SK海力士并未進(jìn)行回應(yīng)。Ixyesmc

從市場情況看,目前服務(wù)器DRAM需求穩(wěn)定且呈增長趨勢,隨著云計算和數(shù)據(jù)中心需求的增長,包括AWS、Meta、Azure、Google、百度、HPE、Dell、阿里云等CSP(云服務(wù)提供商)科技巨頭持續(xù)投資服務(wù)器的推動,DDR5等芯片和內(nèi)存模組的采用情況也在逐步上升。與此同時,由于個人電腦需求下降等因素,PC DRAM芯片的銷售有所停滯。Ixyesmc

NAND方面,綜合行業(yè)多方消息顯示,2023年主要的NAND生產(chǎn)線利用率下降至50%之后,在2024年中期產(chǎn)能利用率曾恢復(fù)到80%~90%。而至今年三四季度,市場現(xiàn)貨交易價格呈向弱趨勢,產(chǎn)能利用率也逐步下降。目前市場上除大容量NAND工藝外,通用NAND產(chǎn)品的需求仍然較低,這促使企業(yè)根據(jù)市場情況進(jìn)一步調(diào)整利用率。目前,多家存儲廠商正在將生產(chǎn)重點進(jìn)一步集中至高附加值存儲產(chǎn)品,如HBM、DDR5、LPDDR5、CXL,或企業(yè)級固態(tài)硬盤(eSSDs)等產(chǎn)品上。Ixyesmc

存儲市場NAND/DRAM新增多條產(chǎn)線Ixyesmc

近期,三星、SK海力士、美光、鎧俠也披露了多個擴(kuò)產(chǎn)/新建計劃,重點無一例外均聚焦于高附加值存儲產(chǎn)品如HBM、CXL或eSSDs上。最新的市場技術(shù)進(jìn)展也頻頻引起市場關(guān)注。在當(dāng)下存儲市場冷熱分明情況下,存儲廠商的的投資愈發(fā)精細(xì)化,聚焦先進(jìn)尖端技術(shù)和高價值產(chǎn)品成為大方向。Ixyesmc

三星將擴(kuò)建中國蘇州和韓國半導(dǎo)體封裝工廠,配備HBM生產(chǎn)線Ixyesmc

在DRAM擴(kuò)產(chǎn)上,近期外媒最新消息顯示,三星內(nèi)部已于三季度決定調(diào)整平澤P4制造綜合體一期(Phase 1)的產(chǎn)能分配,從純NAND調(diào)整為NAND+DRAM。目前三星在平澤共建成有P1、P2、P3三座工廠,P4工廠預(yù)計將于今年年底完工,明年投產(chǎn)。此外,P5工廠也正在建設(shè)中,不同于P1-P4的四個潔凈室,P5是一座擁有八個潔凈室的大型晶圓廠。除新建工廠產(chǎn)線外,三星電子還在針對舊產(chǎn)線改造,如計劃將P2工廠的DRAM生產(chǎn)線由生產(chǎn)1z DRAM改為1b DRAM或更尖端的DRAM產(chǎn)線。Ixyesmc

而聚焦在HBM上,11月21日消息,由于HBM產(chǎn)品中封裝重要性不斷加強(qiáng),三星電子正在擴(kuò)大對國內(nèi)外生產(chǎn)基地的投資,以加強(qiáng)其半導(dǎo)體先進(jìn)封裝業(yè)務(wù)。據(jù)悉,近日三星簽署了第三季度銷售和采購半導(dǎo)體設(shè)備的合同,以擴(kuò)大其中國蘇州工廠的生產(chǎn)設(shè)施,該合同價值約200億韓元。另外三星高管表示,公司將擴(kuò)建其位于忠清南道的半導(dǎo)體封裝設(shè)施,以提高高帶寬內(nèi)存(HBM)芯片的產(chǎn)量。據(jù)悉,三星已經(jīng)與韓國忠清南道政府、天安市政府簽署投資諒解備忘錄,上述兩級政府?dāng)M對三星的新半導(dǎo)體封裝工廠提供行政和財政上的支持,確保三星電子的投資順利進(jìn)行。Ixyesmc

三星看到了在AI時代下HBM市場的巨大潛力,并正在為其落后局面努力追趕。該公司指出,其下一代HBM4計劃在2025年下半年開始大規(guī)模生產(chǎn)。三星在HBM市場能否卷土重來的關(guān)鍵,還在于英偉達(dá)。畢竟英偉達(dá)在AI芯片市場上占據(jù)著主導(dǎo)地位,市場份額超80%。對此三星發(fā)言人特別表示,該公司在HBM3E方面取得了“有意義的進(jìn)展”,并且已經(jīng)“完成了認(rèn)證過程中的一個重要階段”。預(yù)計將在第四季度開始擴(kuò)大系列產(chǎn)品的銷售。Ixyesmc

為了加速推進(jìn)其HBM研發(fā)進(jìn)展,據(jù)臺積電方披露,三星正與其聯(lián)手合作開發(fā)下一代無緩沖(buffer-less)HBM4芯片。并且在HBM的設(shè)計上,三星原定采用7納米工藝,但現(xiàn)在計劃將工藝提升至4納米,以期在芯片性能和用電量方面表現(xiàn)更優(yōu)秀。Ixyesmc

SK海力士宣布開發(fā)16層HBM3E芯片,明年初提供樣品Ixyesmc

SK海力士在存儲市場上的發(fā)展勢頭十分強(qiáng)勁,尤其在HBM領(lǐng)域,可謂是一馬當(dāng)前。三季度其業(yè)績創(chuàng)歷史新高,并且由于其高性能DRAM產(chǎn)品供不應(yīng)求,急需額外的設(shè)施加碼投資。Ixyesmc

據(jù)SK集團(tuán)董事長Chey Tae-won近期透露,SK海力士正與英偉達(dá)、臺積電緊密合作,旨在解決當(dāng)前面臨的供應(yīng)瓶頸問題。據(jù)他所述,英偉達(dá)CEO在一次高層會議上明確提出,希望SK海力士能將下一代高帶寬內(nèi)存芯片HBM4的供應(yīng)時間提前六個月,SK海力士原計劃在2025年下半年正式向客戶交付HBM4芯片。Ixyesmc

據(jù)韓媒報道,SK海力士正全力推進(jìn)第5代1b DRAM的產(chǎn)能提升,計劃將月產(chǎn)能從年初的1萬片激增至年底的9萬片,到明年上半年進(jìn)一步提升至14萬-15萬片,實現(xiàn)產(chǎn)能的飛躍式增長,以應(yīng)對HBM及DDR5 DRAM需求增加。Ixyesmc

公開資料顯示,SK海力士(包括Solidigm)的存儲生產(chǎn)基地主要分布在韓國和中國,其中NAND Flash生產(chǎn)基地位于韓國和中國大連,DRAM生產(chǎn)基地位于韓國和中國無錫。據(jù)悉,SK海力士正在考慮將其清州M14、M15X、M16工廠的部分NAND產(chǎn)能轉(zhuǎn)用于生產(chǎn)HBM。其中,SK海力士已開始向清州M15X工廠訂購設(shè)備,并決定進(jìn)行額外投資。該廠計劃于明年11月竣工并生產(chǎn)包括HBM在內(nèi)的DRAM產(chǎn)品。另外,11月21日,SK海力士宣布,開始量產(chǎn)全球最高的321層 1Tb(太比特,Terabit)TLC(Triple Level Cell)*4D NAND閃存。Ixyesmc

在最近披露的資本支出數(shù)據(jù)上,SK海力士表示今年的資本投資將在18萬億韓元左右,較年初計劃略有增加,原因是對HBM需求高漲以及決定投資忠清北道清州市的M15X。并且由于HBM穩(wěn)定供應(yīng)的投資和龍仁基礎(chǔ)設(shè)施的持續(xù)投資,預(yù)計明年的設(shè)施投資將超過今年20萬億韓元。Ixyesmc

SK海力士在HBM上的研發(fā)一直走在最前列。據(jù)SK海力士官方消息,SK海力士正在從現(xiàn)有的HBM3迅速轉(zhuǎn)換至8層HBM3E產(chǎn)品,而近期開始量產(chǎn)的12層HBM3E按原定計劃將在今年第四季度開始供貨。由此,在第三季度DRAM總銷售額中占據(jù)30%的HBM比重預(yù)計在今年第四季度達(dá)到40%。Ixyesmc

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圖片來源:SK海力士Ixyesmc

并且SK海力士的HBM產(chǎn)品更新迭代速度在加快,SK海力士近日在SK AI Summit 2024活動透露其正在開發(fā)HBM3e 16hi產(chǎn)品,每顆HBM芯片容量為48GB,預(yù)計在2025年上半年送樣。根據(jù)TrendForce集邦咨詢最新研究,這款新產(chǎn)品的潛在應(yīng)用包括CSP(云端服務(wù)業(yè)者)自行研發(fā)的ASIC和general purpose GPU(通用型GPU),有望在HBM4世代量產(chǎn)前,提早于HBM3e世代推升位元容量上限。Ixyesmc

TrendForce集邦咨詢表示,SK hynix的HBM3e 16hi將采用Advanced MR-MUF堆棧制程,與TC-NCF制程相比,使用MR-MUF的產(chǎn)品更容易達(dá)到高堆棧層數(shù)及高運(yùn)算頻寬。在HBM4及HBM4e世代皆預(yù)計設(shè)計16hi產(chǎn)品的情況下,SK hynix率先量產(chǎn)HBM3e 16hi,將能及早累積此堆棧層數(shù)的量產(chǎn)經(jīng)驗,以加速后續(xù)HBM4 16hi的量產(chǎn)時程。SK hynix后續(xù)亦不排除再推出hybrid bonding(混合鍵合)制程版本的16hi產(chǎn)品,以拓展運(yùn)算頻寬更高的應(yīng)用客群。Ixyesmc

美光多地工廠產(chǎn)線擴(kuò)建帶來最新消息,HBM產(chǎn)能將擴(kuò)充Ixyesmc

據(jù)TrendForce集邦咨詢研究顯示,2022年三大原廠HBM市占率分別為SK海力士50%、三星約40%、美光約10%。2023年,則為SK海力士約53%,三星約38%,美光約9%。美光在今年年中表示,目前正積極強(qiáng)化技術(shù)并同步擴(kuò)充產(chǎn)能,預(yù)期到2025年HBM市占率能與其DRAM市占率相當(dāng),約20-25%。從約10%提升至約20-25%,美光為何對其HBM產(chǎn)品如此有信心?Ixyesmc

綜合行業(yè)各方消息顯示,美光正在世界各地的加碼擴(kuò)產(chǎn)。據(jù)悉,美光在中國臺灣的工廠將于2025年開始生產(chǎn)1γ DRAM,其日本廣島工廠將于2026年開始生產(chǎn)。近期,美光在其2024財年三季度的財務(wù)報告中也進(jìn)一步明確了美國愛達(dá)荷州和紐約兩地工廠的運(yùn)營時間表,愛達(dá)荷州的新工廠將在2026年9月至2027年9月之間投產(chǎn),紐約工廠的投產(chǎn)時間則預(yù)計在2028年或之后。Ixyesmc

美光將根據(jù)未來DRAM內(nèi)存的需求情況,合理安排這些工廠的設(shè)備投資和生產(chǎn)計劃。據(jù)悉,這些新工廠的建設(shè)是為了滿足近10年內(nèi)的供應(yīng)增長需求。并且,據(jù)行業(yè)最新消息顯示,美光還正在考慮在馬來西亞增設(shè)生產(chǎn)基地,以及期望在中國臺灣收購相關(guān)的面板廠以進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn)。Ixyesmc

美光科技預(yù)計2024財年的財務(wù)支出約為80億美元,晶圓廠設(shè)備(WFE)的年度支出有所減少。而在2024財年最后一個季度,公司預(yù)計將投入約30億美元用于工廠建設(shè)、新晶圓廠設(shè)備購置以及多項擴(kuò)展和升級項目。對于2025財年,美光計劃大幅增加財務(wù)支出,預(yù)計支出將占到收入的30%以上。具體看,美光表示2025財年的季度財務(wù)支出將超過2024財年第四季度的30億美元,這意味著2025財年的總支出將超過120億美元。據(jù)悉,在2025財年的財務(wù)支出中,美光科技除了有超過20億美元用于在愛達(dá)荷州和紐約建設(shè)新的工廠外,還將大幅增加高帶寬內(nèi)存(HBM)的組裝和測試以及制造、后端設(shè)施建設(shè)的財務(wù)支出。Ixyesmc

先進(jìn)的技術(shù)是未來最強(qiáng)的競爭力,美光正著手開發(fā)HBM4,會考慮采用包括混合鍵合(Hybrid Bonding) 在內(nèi)等相關(guān)技術(shù)。美光預(yù)計將在2026年推出12和16層堆疊的HBM4,帶寬超過1.5TB/s;到2027~2028年,還將發(fā)布12層和16層堆疊的HBM4E,帶寬可達(dá)2TB/s以上。Ixyesmc

此外,近期美光宣布推出基于1β (1-beta) 制程的GDDR7圖形存儲芯片,技術(shù)從PAM4轉(zhuǎn)換成PAM3,打造最高速度達(dá)每秒32Gb,同時其系統(tǒng)頻寬提升至1.5 TB/s以上,頻寬相較前一代GDDR6高出60%,并擁有四個獨(dú)立通道。據(jù)悉,這將進(jìn)一步將美光GDDR7應(yīng)用范圍擴(kuò)至AI、游戲和高效能運(yùn)算工作負(fù)載。Ixyesmc

鎧俠北上工廠K2將于明年Q3投產(chǎn)Ixyesmc

鎧俠近期發(fā)布了2024財年二季度財報,得益于供需平衡改善帶動NAND Flash平均售價上升、NAND Flash出貨量增加(尤其是eSSD),鎧俠二季度營收及營業(yè)利潤均達(dá)歷史新高。Ixyesmc

11月5日,鎧俠宣布其位于巖手縣北上市的北上工廠 Fab2 (K2) 已全面竣工,為了預(yù)備K2投產(chǎn),自2024年11月11日起,行政、技術(shù)部門將陸續(xù)搬進(jìn)臨近K2的新行政大樓,預(yù)估K2將在2025年秋季投產(chǎn)。據(jù)悉,K2工廠將致力于研發(fā)BiCS 9產(chǎn)品。另外,鎧俠目前較為先進(jìn)的第8代NAND Flash “BiCS8”產(chǎn)品前景較優(yōu)。鎧俠表示,受惠于AI熱潮,預(yù)估NAND需求將在2025年以后穩(wěn)健成長、像BiCS8這樣高性能的存儲需求將增加,未來五年閃存需求將增長約2.7倍。Ixyesmc

而關(guān)于是否進(jìn)一步擴(kuò)增產(chǎn)能,鎧俠透露,會在調(diào)查所有可能性和市場需求后再擴(kuò)大產(chǎn)能規(guī)模。目前已在北上工廠南測備有空地,會在適當(dāng)?shù)臅r間點進(jìn)行投資。Ixyesmc

而在新技術(shù)和新產(chǎn)品方面,鎧俠已經(jīng)開始大規(guī)模量產(chǎn)采用QLC技術(shù)的UFS4.0嵌入式產(chǎn)品,并推出了符合PCIe® 5.0標(biāo)準(zhǔn)的NVMe EDSFF(企業(yè)級和數(shù)據(jù)中心標(biāo)準(zhǔn)形態(tài))E1.S SSD。近期,鎧俠還宣布,將在未來3年內(nèi),投資360億日元研發(fā)基于CXL(Compute Express Link)的內(nèi)存,目標(biāo)在2030年代前半段實現(xiàn)商業(yè)化。Ixyesmc

IPO方面,鎧俠也有了最新動態(tài),鎧俠近期向金融廳提交了一份證券登記聲明,期望在2024年12月-2025年6月期間IPO上市,目標(biāo)市值超1萬億日元,將首度活用日本2023年10月新導(dǎo)入的上市申請方式以縮短上市所需的手續(xù)時間,且視市況動向仍將持續(xù)摸索最早于今年內(nèi)(2024年12月內(nèi))上市的可能性。Ixyesmc

責(zé)編:Elaine
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