據(jù)多家媒體報(bào)道，美東時(shí)間10月8日，AI芯片大廠英偉達(dá)強(qiáng)調(diào)了同臺(tái)積電在加速計(jì)算領(lǐng)域合作的成績(jī)：其名為cuLitho的計(jì)算光刻平臺(tái)正在臺(tái)積電投入生產(chǎn)。0Rlesmc
英偉達(dá)表示，cuLitho將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻領(lǐng)域，將cuLitho投入生產(chǎn)使臺(tái)積電能夠加快下一代芯片技術(shù)的開發(fā)，而目前的生產(chǎn)流程正接近物理學(xué)的極限。臺(tái)積電應(yīng)用cuLitho進(jìn)行生產(chǎn)可以提高制造下一代先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的速度，并突破物理限制。0Rlesmc
2023年3月，英偉達(dá)宣布將加速計(jì)算引入計(jì)算光刻領(lǐng)域，使ASML、TSMC和Synopsys等半導(dǎo)體企業(yè)能夠加速下一代芯片的設(shè)計(jì)和制造。0Rlesmc
NVIDIA cuLitho是用于GPU加速計(jì)算光刻和半導(dǎo)體制造工藝，含有優(yōu)化過的工具和算法的庫，其速度比當(dāng)前基于CPU的方法快幾個(gè)數(shù)量級(jí)。0Rlesmc
據(jù)官方介紹，cuLitho在GPU上運(yùn)行時(shí)，性能比目前的光刻技術(shù)（在硅片上創(chuàng)建圖案的過程）提高了40倍，加速了目前每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)的海量計(jì)算工作負(fù)載。它使500個(gè)NVIDIA DGX H100系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)40,000個(gè)CPU系統(tǒng)的工作，并行運(yùn)行計(jì)算光刻過程的所有部分，有助于減少電力需求和潛在的環(huán)境影響。0Rlesmc
短期內(nèi)，使用cuLitho的晶圓廠每天可生產(chǎn)3-5倍的光掩模（芯片設(shè)計(jì)的模板），耗電量比當(dāng)前配置少9倍。一個(gè)光掩模過去需要兩周時(shí)間，現(xiàn)在一夜之間就能加工完成。從長(zhǎng)遠(yuǎn)來看，cuLitho將實(shí)現(xiàn)更好的設(shè)計(jì)規(guī)則、更高的密度、更高的產(chǎn)量和人工智能光刻。0Rlesmc
英偉達(dá)CEO黃仁勛彼時(shí)表示，“芯片行業(yè)是全球幾乎所有其他行業(yè)的基礎(chǔ)。光刻技術(shù)處于物理極限，NVIDIA推出cuLitho并與合作伙伴TSMC、ASML和Synopsys合作，使晶圓廠能夠提高產(chǎn)量、減少碳足跡，并為2nm及以后奠定基礎(chǔ)。”0Rlesmc
責(zé)編：Elaine
