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全球2nm晶圓廠建設(shè)加速!

AI強勢推動之下,先進制程芯片重要性日益凸顯。

當前3nm工藝為業(yè)內(nèi)最先進的制程技術(shù),與此同時臺積電、三星、英特爾、Rapidus等廠商積極推動2nm晶圓廠建設(shè),臺積電、三星此前曾規(guī)劃2nm芯片將于2025年量產(chǎn),Rapidus則計劃2nm芯片將于2025年開始試產(chǎn)。FhIesmc

隨著這一時間逐漸臨近,全球2nm晶圓廠建設(shè)加速進行中。FhIesmc

2nm晶圓廠最快年內(nèi)建成?

近期,國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)對外表示,預計臺積電與英特爾兩家大廠有望今年年底之前建成2nm晶圓廠。FhIesmc

其中英特爾有望率先實現(xiàn)2nm芯片商用,英特爾PC CPU Arrow Lake產(chǎn)品將采用2nm制程工藝節(jié)點,臺積電2nm工藝將有望應用于蘋果iPhone AP芯片中,后續(xù)臺積電2nm產(chǎn)能將大幅上升。FhIesmc

另據(jù)臺媒報道,臺積電2nm制程設(shè)備安裝加速,臺積電新竹寶山Fab20 P1廠計劃于今年4月進行設(shè)備安裝工程,有望于下半年開始試產(chǎn),2025年二季度小量生產(chǎn)。FhIesmc

英特爾方面,去年年底ASML已將全球首臺高數(shù)值孔徑High NA EUV EXE:5200交付給了英特爾,助力后者生產(chǎn)2nm芯片。隨后英特爾開啟了光刻機調(diào)試工作,并且進展順利。FhIesmc

今年2月英特爾和ASML技術(shù)支持團隊聯(lián)合宣布已打開EXE:5000光刻機的光源,并使光線到達抗蝕劑。業(yè)界表示,這是光刻機正式投入使用前的一項重要準備工作,代表光刻機的光源已經(jīng)正常工作了。此后,英特爾又對外分享視頻,展示了首臺High-NA EUV光刻機交付過程,相關(guān)組件通過空運從荷蘭運到美國,相比海運進一步縮短了交貨時間。FhIesmc

三星、Rapidus蓄勢待發(fā)

三星方面,SEMI認為該公司今年可能不會建成2nm晶圓廠。不過此前三星公布的技術(shù)路線圖顯示,將自2025年起首先于移動終端量產(chǎn)2納米制程芯片,隨后在2026年將其用于高性能計算(HPC)產(chǎn)品,并于2027年擴至車用芯片。FhIesmc

至于Rapidus,該公司正在日本北海島千歲市興建2nm芯片工廠,試產(chǎn)產(chǎn)線計劃在2025年4月啟用、目標2027年開始進行量產(chǎn)。FhIesmc

近期,媒體報道為了推動日本先進晶圓廠發(fā)展,多家日本廠商將向Rapidus供應產(chǎn)品。其中,日本印刷(DNP)將在2027年于日本上福岡工廠等據(jù)點開始量產(chǎn)2納米芯片用光罩,并將供應給Rapidus使用。光罩使用于在硅晶圓上形成電路的微影制程,FhIesmc

除DNP外,日廠TOPPAN Holdings也和IBM合作研發(fā)2納米用光罩、目標2026年量產(chǎn),供應對象據(jù)悉也為Rapidus。此外,包括東京應化工業(yè)(TOK)、JSR、信越化學等廠商也有望向Rapidus展開供貨。FhIesmc

1nm芯片計劃曝光!

2nm之后,1nm芯片是晶圓廠的下一個目標。按照廠商規(guī)劃,2027年至2030年,業(yè)界有望看到1nm級別芯片量產(chǎn)。FhIesmc

臺積電計劃在2027年達到A14節(jié)點(1.4nm),并在2030年達到A10節(jié)點(1nm)。近期媒體報道,臺積電擬在中國臺灣中部的嘉義縣太保市科學園區(qū)設(shè)廠,生產(chǎn)1nm芯片。FhIesmc

三星計劃2027年底前推出1.4nm制程,據(jù)悉,三星SF1.4(1.4nm)工藝,納米片(nanosheets)的數(shù)量從3個增加到4個,有望明顯改善性能和功耗。FhIesmc

英特爾代工最新路線圖顯示,Intel 14A(1.4nm級)節(jié)點將于2026年投入生產(chǎn),Intel 10A(1nm級)將于2027年底開始開發(fā)或生產(chǎn)。FhIesmc

結(jié)語

TrendForce集邦咨詢表示,2023年受供應鏈庫存高企、全球經(jīng)濟疲弱,以及市場復蘇緩慢影響,晶圓代工產(chǎn)業(yè)處于下行周期,前十大晶圓代工營收年減約13.6%,達1115.4億美元。2024年在AI相關(guān)需求的帶動下,營收預估有機會年增12%,達1252.4億美元,而臺積電受惠于先進制程訂單穩(wěn)健,年增率將大幅優(yōu)于產(chǎn)業(yè)平均。FhIesmc

AI浪潮帶動下,晶圓代工產(chǎn)業(yè)在今年告別下行“陰霾“,恢復成長,先進制程成為重要推動力,因而備受重視。展望未來,晶圓代工先進制程競賽仍將持續(xù),3nm之后,誰將主宰2nm、1nm時代?我們拭目以待。FhIesmc

責編:Momoz
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