其工業(yè)和貿易部副部長Vasily Shpak在接受媒體訪問時指出，2024年將開始生產350納米光刻機，2026年啟動用于生產130納米制程芯片的光刻機。其生產將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞的現(xiàn)有工廠進行。n51esmc
Vasily Shpak指出，當前全球只有兩家公司生產此類設備，包括日本尼康和荷蘭ASML。然而，其對于半導體的生產相當重要。 n51esmc
Vasily Shpak表示，2024年就將撥款2114億盧布用于俄羅斯電子產品的開發(fā)。俄羅斯決定開發(fā)350納米到65納米光刻機的原因，在于這一技術范圍內的芯片多用于微控制器、電力電子、電信電路、汽車電子等方面上，這些應用大約占市場的60%。所以，這項設備在全世界市場的需求量很大，并且將在至少10年內有持續(xù)的需求。n51esmc
另外，當被問到可能遭遇的阻力時，Vasily Shpak說，我不想抱怨，所有的問題都不是問題，因為這關系到我們擁有哪些機會，以及所設定的目標。n51esmc
責編：Elaine
