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3DNANDFlash,劍指1000層堆疊!

閃存進入立體堆疊時代之后,在存儲大廠推動下,閃存堆疊層數(shù)越來越高,目前已經(jīng)突破200層大關(guān)。

不過,大廠對于層數(shù)的追求永不止步,根據(jù)韓媒The Elec報道,三星存儲業(yè)務(wù)高管近日對外表示,2030年V-NAND可以疊加到1000多層。閃存市場層數(shù)堆疊競爭愈演愈烈,未來存儲產(chǎn)品容量有望持續(xù)提升。rRLesmc

閃存層數(shù)之爭愈演愈烈,2030年劍指1000層以上rRLesmc

隨著AI、大數(shù)據(jù)等技術(shù)發(fā)展,催生大容量存儲產(chǎn)品(如SSD)的需求,與傳統(tǒng)平面架構(gòu)2D NAND Flash相比,3D NAND Flash、4D NAND Flash可提供更大存儲空間滿足了業(yè)界日益增長的存儲需求,因而逐漸受到大廠重視。rRLesmc

目前3D/4D NAND Flash已經(jīng)突破200層,三星第8代V-NAND層數(shù)達到了236層;美光232層NAND Flash已經(jīng)量產(chǎn)出貨;今年3月鎧俠和西部數(shù)據(jù)共同宣布推出218層3D NAND閃存,已開始為部分客戶提供樣品;SK海力士2022年8月成功開發(fā)出世界最高238層4D NAND閃存,今年6月該公司宣布已開始量產(chǎn)238層4D NAND閃存,并正在與生產(chǎn)智能手機的海外客戶公司進行產(chǎn)品驗證。rRLesmc

未來存儲廠商將持續(xù)發(fā)力更高層數(shù)NAND Flash,美光232層之后,計劃推出2YY、3XX與4XX等更高層數(shù)產(chǎn)品;鎧俠與西數(shù)也在積極探索300層以上、400層以上與500層以上的3D NAND技術(shù);三星則計劃2024年推出第九代3D NAND(有望達到280層),2025-2026年推出第十代3D NAND(有望達到430層),2030年前實現(xiàn)1000層NAND Flash。rRLesmc

不過,要想實現(xiàn)1000層以上NAND Flash并非易事,三星存儲業(yè)務(wù)高管透露,就像建設(shè)摩天大樓一樣,需要考慮坍塌、彎曲、斷裂等諸多穩(wěn)定性問題,此外還需要克服連接孔加工工藝、最小化電池干擾、縮短層高以及擴大每層存儲容量等挑戰(zhàn)。rRLesmc

兩大擴容方式,未來十年單顆SSD容量可達1PB?rRLesmc

在2D NAND平面時代,廠商主要依靠工藝進行擴容。為了提升閃存產(chǎn)品容量,廠商會引入先進的制程工藝,如從50nm制程提升至30nm制程,在相同尺寸面積下,可實現(xiàn)更大容量。rRLesmc

不過,再先進的制程工藝在單位面積下的存儲密度也是存在極限的,而且隨著制程提升,存儲密度增加,相鄰存儲單元格電荷干擾問題也就越嚴(yán)重,進而導(dǎo)致數(shù)據(jù)處理錯誤率提升以及使用壽命減少等問題。rRLesmc

為了突破這些瓶頸,閃存從平面走向立體,堆疊層數(shù)越來越高,閃存芯片容量與性能也不斷提升。rRLesmc

除了堆疊技術(shù)之外,另一大擴容的有效手段是改變閃存芯片結(jié)構(gòu),從SLC、MLC、TLC、QLC到PLC,五種閃存顆粒每單元可存儲的信息層層遞進,容量逐步提升,不過性能、可靠性、壽命并未隨之優(yōu)化,需要借助一些技術(shù)手段以彌補修復(fù)。rRLesmc

在閃存堆疊與架構(gòu)創(chuàng)新技術(shù)推動下,以SSD為代表的閃存產(chǎn)品容量不斷攀升。目前,消費級SSD常見容量包括256GB、512GB、1TB、2TB、4TB等,企業(yè)級SSD容量更大一些,可達16TB、32TB、64TB、甚至128TB以上。rRLesmc

今年3月三星電子對外表示,預(yù)計在未來十年單顆SSD的容量可達1PB(1024TB)。業(yè)界認為,QLC/PLC閃存架構(gòu)與1000層堆疊技術(shù)有望助力SSD不斷邁向PB級未來。rRLesmc

責(zé)編:Elaine
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