據(jù)韓國(guó)ET News報(bào)道，半導(dǎo)體光掩膜供應(yīng)緊缺，多家光掩膜主要供應(yīng)商在手訂單高企，包括Photronics、Toppan、DNP等。eWAesmc
以往正常情況下，高規(guī)格光掩膜產(chǎn)品出貨時(shí)間為7天，如今已拉長(zhǎng)至30-50天，是原有時(shí)長(zhǎng)的4-7倍；低規(guī)格產(chǎn)品交付時(shí)間也較往日增長(zhǎng)1倍。eWAesmc
業(yè)內(nèi)擔(dān)憂，明年這一材料價(jià)格或較今年高點(diǎn)再漲10%-25%，交付時(shí)間或?qū)⑦M(jìn)一步延長(zhǎng)。eWAesmc
眼下半導(dǎo)體行業(yè)寒冬未過(guò)，光掩膜的價(jià)格卻逆勢(shì)走高，這一情況頗為罕見(jiàn)。實(shí)際上，供需之間的鴻溝主要來(lái)自兩方面：eWAesmc
其一，半導(dǎo)體廠商透露，光掩膜電子束蝕刻等設(shè)備交付延后，導(dǎo)致光掩膜生產(chǎn)受阻。eWAesmc
其二，則來(lái)源于需求端。據(jù)了解，飆升的需求主要來(lái)自系統(tǒng)級(jí)芯片，特別是車用芯片、自動(dòng)駕駛芯片等高性能芯片。下游領(lǐng)域的旺盛需求驅(qū)動(dòng)著IC設(shè)計(jì)廠擴(kuò)大下單，由此加劇光掩膜需求。eWAesmc
在這種情況下，業(yè)內(nèi)人士預(yù)計(jì)，半導(dǎo)體代工廠商生產(chǎn)日程或?qū)⑦M(jìn)一步推后，而代工價(jià)格將隨之抬升；而近期逐漸開(kāi)始緩解的汽車缺芯問(wèn)題，或?qū)⒅匦罗D(zhuǎn)向短缺。eWAesmc
公開(kāi)資料顯示，在半導(dǎo)體制造流程中，需使用光蝕刻技術(shù)，在芯片上形成圖形。而為了將圖形復(fù)制在晶圓上，必須借助光掩膜的幫助——這一流程類似與沖洗相片時(shí)，利用底片將圖像復(fù)制至相片上，因此光掩膜也被稱為光刻工藝的“底片”。eWAesmc
國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)顯示，2020年光掩膜在半導(dǎo)體材料中占比約12%，僅次于硅片。而中信證券此前已指出，短期來(lái)看，半導(dǎo)體材料本土化訴求強(qiáng)烈，龍頭企業(yè)有望加速提升市場(chǎng)份額；中長(zhǎng)期來(lái)看，材料作為芯片制造的關(guān)鍵耗材，市場(chǎng)總盤(pán)子不斷擴(kuò)大。新增產(chǎn)能落地將為材料需求帶來(lái)新增量；技術(shù)升級(jí)則將帶來(lái)材料的價(jià)值量與用量提升。eWAesmc
責(zé)編：Momoz
