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內(nèi)存廠商豪賭先進(jìn)制程,閃存產(chǎn)品邁向更高層數(shù)

進(jìn)入第四季度,由于消費(fèi)電子市場(chǎng)需求持續(xù)疲軟,存儲(chǔ)芯片供應(yīng)鏈庫存仍舊高企,價(jià)格跌幅不斷擴(kuò)大。

全球市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)TrendForce集邦咨詢數(shù)據(jù)顯示,今年第四季度DRAM價(jià)格跌幅將擴(kuò)大至13~18%,NAND Flash在第四季度同樣維持下跌趨勢(shì),價(jià)格跌幅則將擴(kuò)大至15~20%。Fopesmc

存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)迎來下行周期,產(chǎn)業(yè)變得愈發(fā)保守起來,比如縮減產(chǎn)能、靈活調(diào)整資本支出。美光科技預(yù)計(jì)2023財(cái)年資本支出為80億美元,同比下滑33%;鎧俠日本的兩座NAND閃存工廠從10月開始晶圓生產(chǎn)量將減少約30%;三星表示可能靈活調(diào)整2023年設(shè)備方面的資本支出;SK海力士決定將明年的投資規(guī)模從今年預(yù)計(jì)的15萬億韓元至20萬億韓元減少到50%以上的標(biāo)準(zhǔn)。Fopesmc

不過,在逆境之下,存儲(chǔ)大廠始終對(duì)先進(jìn)技術(shù)保持積極投入的態(tài)度。Fopesmc

內(nèi)存:豪賭先進(jìn)制程

對(duì)DRAM芯片而言,先進(jìn)制程意味著高能效與高容量,以及更好的終端使用體驗(yàn)。當(dāng)前,DRAM先進(jìn)制程工藝——10nm級(jí)別,經(jīng)歷了1x、1y、1z與1α四代技術(shù),目前來到了第五代。Fopesmc

美光率先發(fā)力,1β DRAM即將量產(chǎn)Fopesmc

11月2日,美光科技宣布采用全球先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的1β DRAM產(chǎn)品已開始向部分智能手機(jī)制造商和芯片平臺(tái)合作伙伴送樣以進(jìn)行驗(yàn)證,并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備。美光率先在低功耗LPDDR5X移動(dòng)內(nèi)存上采用該新一代制程技術(shù),其最高速率可達(dá)每秒8.5Gb。Fopesmc

美光透露,與1α相比,1β技術(shù)可將能效提高約15%,內(nèi)存密度提升35%以上,單顆裸片容量高達(dá)16Gb。美光認(rèn)為,隨著LPDDR5X的出樣,移動(dòng)生態(tài)系統(tǒng)將率先受益于1β DRAM產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì),從而解鎖下一代移動(dòng)創(chuàng)新和先進(jìn)的智能手機(jī)體驗(yàn),并同時(shí)降低功耗。Fopesmc

據(jù)美光DRAM制程集成副總裁Thy Tran表示,1β節(jié)點(diǎn)DRAM的量產(chǎn)已全面準(zhǔn)備就緒,將會(huì)率先在日本工廠量產(chǎn),之后也會(huì)在中國(guó)臺(tái)灣量產(chǎn)。除此之外,美光還計(jì)劃在未來一年在嵌入式、數(shù)據(jù)中心、客戶端、消費(fèi)類產(chǎn)品、工業(yè)和汽車等領(lǐng)域量產(chǎn)1β節(jié)點(diǎn),推出包括顯示內(nèi)存和高帶寬內(nèi)存等產(chǎn)品。Fopesmc

三星緊隨其后,2023進(jìn)入1bnm工藝階段Fopesmc

在10月召開的Samsung Foundry Forum 2022活動(dòng)上,三星對(duì)外公布了DRAM技術(shù)路線圖。按照規(guī)劃,三星將于2023年進(jìn)入1bnm工藝階段,即第五代10nm級(jí)別DRAM產(chǎn)品,芯片容量將達(dá)到24Gb(3GB)-32Gb(4GB),原生速度將在6.4-7.2Gbps。Fopesmc

與目前主力第四代10nm級(jí)DRAM相比,三星第五代10nm級(jí)DRAM的線寬(半導(dǎo)體中電子經(jīng)過的電路寬度)減少了2nm以上。為了克服DRAM擴(kuò)展到10nm范圍以外的挑戰(zhàn),三星一直在開發(fā)圖案化、材料和架構(gòu)方面的顛覆性解決方案,高K材料等技術(shù)正在順利進(jìn)行中。Fopesmc

三星還計(jì)劃2026年推出DDR6內(nèi)存,2027年實(shí)現(xiàn)原生10Gbps的速度。與此同時(shí),三星新一代GDDR7顯存將在明年問世。Fopesmc

閃存:邁向更高層數(shù)

自三星2013年推出全球首款3D NAND閃存之后,閃存層數(shù)與架構(gòu)不斷突破,容量也不斷提升。目前可以量產(chǎn)的NAND Flash最高層數(shù)已經(jīng)達(dá)到了232層,未來閃存廠商還將朝著238層、300層甚至更高層數(shù)邁進(jìn)。Fopesmc

美光:232層NAND量產(chǎn)Fopesmc

2022年7月,美光科技宣布推出全球首款232層NAND,該產(chǎn)品現(xiàn)已在美光新加坡工廠量產(chǎn),它最初以組件形式通過美光旗Crucial英睿達(dá)SSD消費(fèi)產(chǎn)品線向客戶發(fā)貨。與前幾代美光NAND相比,美光232層NAND具有業(yè)界最高的面密度,并提供更高的容量和更高的能效,從而為客戶端到云端等數(shù)據(jù)密集型用例提供支持。Fopesmc

232層NAND不是美光閃存技術(shù)迭代的終點(diǎn),今年5月該公司曝光的技術(shù)路線圖顯示,232層之后美光還將發(fā)力2YY、3XX與4XX等更高層數(shù)。Fopesmc

SK海力士:238層NAND明年上半年量產(chǎn)Fopesmc

2022年8月,SK海力士宣布成功研發(fā)238層512Gb TLC 4D NAND閃存,計(jì)劃在2023年上半年正式投入量產(chǎn)。238層NAND閃存成功堆棧更高層數(shù)的同時(shí),實(shí)現(xiàn)了業(yè)界最小的面積。Fopesmc

新產(chǎn)品每單位面積具備更高的密度,借其更小的面積能夠在相同大小的硅晶片生產(chǎn)出更多的芯片,因此相比176層NAND閃存其生產(chǎn)效率也提高了34%。此外,238層NAND閃存的數(shù)據(jù)傳輸速度為2.4Gbps,相比前一代產(chǎn)品提高了50%,芯片讀取數(shù)據(jù)時(shí)的能源消耗也減少了21%。Fopesmc

三星:1Tb TLC第8代V-NAND已量產(chǎn)Fopesmc

11月7日,三星宣布已開始量產(chǎn)三星產(chǎn)品中具有最高存儲(chǔ)密度的1Tb(太字節(jié))三級(jí)單元(TLC)第8代V-NAND,其輸入和輸出(I/O)速度高達(dá)2.4Gbps(千兆比特每秒),相比上一代提升了1.2倍,這可以滿足PCIe 4.0和更高版本PCIe 5.0的性能要求。Fopesmc

業(yè)界透露,三星第8代V-NAND層數(shù)達(dá)到了236層。此外,三星還計(jì)劃到2030年推出超過1000層的產(chǎn)品,以更好地支持未來的數(shù)據(jù)密集型技術(shù)。Fopesmc

鎧俠與西數(shù):未來發(fā)力500+層NANDFopesmc

2022年10月,鎧俠宣布和西部數(shù)據(jù)位于日本四日市的合資工廠Fab7竣工,該工廠具備生產(chǎn)第六代162層閃存(BiCS6)和未來先進(jìn)3D閃存的能力,計(jì)劃于2023年初開始出貨162層閃存。Fopesmc

與第五代技術(shù)相比,BiCS6的橫向單元陣列密度提高了10%;同時(shí),它降低了每單位的成本,使每個(gè)晶圓的存儲(chǔ)數(shù)量增加了70%。Fopesmc

此前5月西部數(shù)據(jù)公布的技術(shù)路線圖顯示,兩家公司2032年之前還將陸續(xù)推出200層以上、300層以上、400層以上與500層以上閃存技術(shù)。Fopesmc

結(jié)語

盡管半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展暫時(shí)進(jìn)入“寒冬”,但存儲(chǔ)芯片賽道上的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)仍舊十分激烈。無論是第五代10nm級(jí)DRAM技術(shù),還是更高層數(shù)堆疊的NAND Flash,存儲(chǔ)大廠都在積極發(fā)力,以保持市場(chǎng)領(lǐng)先地位,并滿足市場(chǎng)對(duì)高容量、高性能產(chǎn)品需求,呈現(xiàn)出持續(xù)發(fā)展的潛能。冬天到了,存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)的春天還會(huì)遠(yuǎn)嗎?Fopesmc

責(zé)編:Momoz
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