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半導體設備高光時刻來臨,景氣度有望拉滿第三年

2021年和2022年是全球半導體設備行業(yè)的高光時期。2021年高漲的設備需求由景氣的下游市場和需求旺盛的中游晶圓制造共同支撐。

轉(zhuǎn)至2022年,中游晶圓大廠不謀而合的“逆周期擴產(chǎn)熱”降低了下游市場需求不振對上游設備的影響,多數(shù)廠商景氣度持續(xù),設備行業(yè)儼然成為半導體產(chǎn)業(yè)中業(yè)績確定性最強的細分領(lǐng)域。60hesmc

這兩年也是本土設備廠商難得一遇的黃金發(fā)展期。半導體設備研發(fā)周期長、投入大,并且需要較長的試錯期。我國許多老牌設備企業(yè)已在行業(yè)內(nèi)摸爬滾打十幾年,在許多細分領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了關(guān)鍵技術(shù)的突破,當下打開國內(nèi)外市場正缺這樣一個契機。60hesmc

在此機遇期,本土廠商將會迎來哪些突破呢?現(xiàn)下半導體領(lǐng)域正值下行周期,是否會對本土設備業(yè)產(chǎn)生一定影響?本文將結(jié)合最新企業(yè)半年報以及我國2022年1-8月的設備開標中標情況一探究竟。60hesmc

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背靠晶圓制造60hesmc

設備廠商景氣度連漲兩年60hesmc

按照工藝流程劃分,半導體設備可分為晶圓制造(前道設備)和封裝、測試設備(后道設備)。60hesmc

前道晶圓制造設備占據(jù)了市場80%以上的份額,設備類型主要包括薄膜沉積、光刻機、刻蝕機、熱處理設備、離子注入機、CMP(化學機械研磨)設備等。其中,薄膜沉積、光刻、刻蝕是半導體設備的三大件,價值含量最大。60hesmc

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△全球半導體觀察根據(jù)公開資料制圖60hesmc

半導體設備的增長與晶圓廠的擴張緊密關(guān)聯(lián),晶圓廠擴產(chǎn)的資本支出中約有70%-80%是用于購買半導體設備。全球半導體觀察根據(jù)公開數(shù)據(jù)不完全統(tǒng)計,2022年全球半導體資本支出將超過1800億美元。60hesmc

結(jié)合SEMI發(fā)布的最新報告,2021年全球半導體制造設備銷售額增至1026億美元的歷史新高,年增44%,中國再次成為全球最大的半導體設備市場,并預計2022年全球芯片廠設備支出總額將至990億美元,同比增長約9%。60hesmc

當下正值下行周期,支撐設備行業(yè)的晶圓制造動力在近期出現(xiàn)了一絲變動跡象,主要體現(xiàn)在部分晶圓大廠延緩擴產(chǎn)計劃,削減部分還未開始的資本開支等。業(yè)界對于設備行業(yè)景氣度還能持續(xù)多久產(chǎn)生了些許疑問。60hesmc

從晶圓制造前景看,近期許多大廠紛紛表示,當前的擴產(chǎn)行為不僅僅是為了緩解短期的芯片短缺問題,更是適應未來長期的市場需求。雖然當下電子消費市場疲軟,但未來云、服務器、高性能運算、車用與工控等領(lǐng)域高速發(fā)展,未來市場對于晶圓制造這塊蛋糕的需求只會越來越大,頭部企業(yè)對其發(fā)展前景較為看好。由此來看,支撐半導體設備的這塊強力后盾還將持續(xù)發(fā)力,設備景氣度還有望延續(xù)。60hesmc

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聚焦近兩年財報60hesmc

國產(chǎn)替代超長待機中60hesmc

2021年度國內(nèi)設備廠商經(jīng)營業(yè)績十分亮眼,營收創(chuàng)歷史新高比比皆是。近期國內(nèi)主要設備廠商的半年報數(shù)據(jù)也已陸續(xù)開出,景氣度持續(xù),多家大廠利潤一度破百分之百。60hesmc

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總體情況看,近半企業(yè)營收同比增長均超50%。營收方面,北方華創(chuàng)、中微公司、長川科技、至純科技、盛美上海、華海清科營收占據(jù)前六,其中北方華創(chuàng)以54.44億元營收居于榜首。在同比增長率上,華海清科、拓荊科技、長川科技、華峰測控、盛美上海保持較高水準,華海清科連續(xù)兩年同比增長超過百分百,拓荊科技今年則實現(xiàn)364.87%的同比增長,充分收益本次機遇,營收達5.23億元。60hesmc

在財報數(shù)據(jù)中,各大設備廠的合同負債率十分值得關(guān)注。通常來講,半導體設備生產(chǎn)交付、驗收均需要3-6個月左右的時間周期,因此訂單反映到公司收入上一般需要6-12個月的時間。半導體設備的客戶通常會預先支付一部分訂金,形成合同負債。從財報分析角度看,合同負債能在一定程度上反映設備廠商的在手訂單情況。60hesmc

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從上表可知,在合同負債方面,北方華創(chuàng)、中微公司、拓荊科技、萬業(yè)企業(yè)、華海清科分別為57億、16億、10億、9.07億、11億,上述公司在未來6—12個月里在手訂單飽滿。60hesmc

近兩年設備成為香餑餑的重要原因,還在于設備缺芯缺部件,致使設備交期不斷延長。但結(jié)合我國設備廠商交付情況看,他們受到該因素的影響比國外廠商小,這也推動了國內(nèi)廠商在近兩年里快速出圈。具體來講,北方華創(chuàng)和中微公司等企業(yè)超額采購保障供給,以及重視本地產(chǎn)業(yè)鏈條搭建、加強國產(chǎn)替代等方法對營收收效較大。60hesmc

以北方華創(chuàng)為例,根據(jù)其財報數(shù)據(jù)顯示,2021年其采購總額為176億元,為該年50億原材料成本的3倍之多,而今年上半年,北方華創(chuàng)的存貨持續(xù)創(chuàng)新高,表明該公司在手訂單充沛,下游需求依舊旺盛。60hesmc

此外,顧慮于全球設備供應鏈的不確定性,我國半導體企業(yè)將更多目光投向本地零部件及設備供應鏈,本土廠商借此獲得更多的驗證機會。60hesmc

據(jù)中微公司消息,其在全球共有700余家供應商,活躍的有450余家。其刻蝕機的零部件國產(chǎn)化程度達60%,MOCVD設備國產(chǎn)化情況達80%。官方消息顯示,其較高的國產(chǎn)化程度,是中微公司在材料費漲價、運輸時間推遲的情況下,至今仍保持100%的產(chǎn)品運出和準時的關(guān)鍵。60hesmc

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各細分領(lǐng)域翹楚紛紛出圈60hesmc

平臺型企業(yè)轉(zhuǎn)型加速60hesmc

從整體類別上看,國產(chǎn)設備基本可以覆蓋到半導體制造的各階段所需,在制造實力上,我國在刻蝕、清洗、薄膜沉積設備方面較為突出,尤其是我國的刻蝕設備,已經(jīng)成長為我國最具優(yōu)勢的半導體設備領(lǐng)域,逐漸進入到成熟期。而在CMP、光刻、離子注入等設備上,我國仍較為薄弱。60hesmc

首先看刻蝕設備,目前我國刻蝕設備代表企業(yè)主要是北方華創(chuàng)、中微公司、屹唐半導體和嘉芯半導體。其中,中微公司的CCP刻蝕設備已進入一線晶圓代工廠商5nm產(chǎn)線,而在3D NAND芯片制造方面,中微公司的CCP刻蝕設備可應用于64層堆疊芯片的量產(chǎn),目前正在開發(fā)96層及更先進的刻蝕設備。近年來,由于中微公司較高的刻蝕技術(shù)話語權(quán)及成本控制能力,其利潤率水平連年上升,2019年至2021年,其刻蝕設備毛利率分別為34.93%、37.67%、44.32%,今年上半年則為46.05%。60hesmc

在薄膜沉積設備上,我國的代表企業(yè)為拓荊科技和北方華創(chuàng)。其中,拓荊科技是國內(nèi)唯一一家產(chǎn)業(yè)化應用的集成電路PECVD(等離子增強化學氣相淀積)設備廠商,其PECVD設備產(chǎn)品已適配國內(nèi)先進的28/14nm邏輯芯片、19/17nm DRAM芯片及64/128層3D NAND FLASH晶圓制造產(chǎn)線。目前拓荊科技正以PECVD設備為核心并加快發(fā)展更先進的ALD(原子層沉積)和SACVD(次常壓化學氣相沉積)設備。60hesmc

相比于其它半導體設備,清洗設備的技術(shù)門檻較低,我國廠商在此領(lǐng)域發(fā)展迅速,國產(chǎn)化率上升明顯。該領(lǐng)域代表廠商盛美上海、北方華創(chuàng)、芯源微、至純科技產(chǎn)品各具特色,這四家廠商目前持差異化競爭布局。其中,盛美上海成功研發(fā)出全球首創(chuàng)的SAPS、TEBO兆聲波清洗技術(shù)和Tahoe單片槽式組合清洗技術(shù)等,可應用于45nm及以下技術(shù)節(jié)點的晶圓清洗領(lǐng)域。60hesmc

根據(jù)中國國際招標網(wǎng)公開數(shù)據(jù)統(tǒng)計顯示,我國半導體清洗設備國產(chǎn)化率為25%左右,其中盛美上海市場份額為23%。另外值得一提的是,盛美上海于今年7月中旬推出了新型化學機械研磨后(Post-CMP)清洗設備,業(yè)界對此較為關(guān)注。60hesmc

而在涂膠顯影設備上,芯源微是國內(nèi)主要供應商,該公司前道涂膠顯影設備在28nm及以上工藝節(jié)點的多項關(guān)鍵技術(shù)方面取得突破,其最新的前道KrF涂膠顯影機顯示也在今年上半年實現(xiàn)批量銷售。官方消息顯示,當前芯源微在國內(nèi)前道涂膠顯影市場的市占率為4%左右。60hesmc

在其他設備細分領(lǐng)域,國產(chǎn)設備企業(yè)也有所突破,如華海清科的CMP設備成功填補國內(nèi)空白,其推出了國內(nèi)首臺擁有核心自主知識產(chǎn)權(quán)的12英寸CMP設備并實現(xiàn)量產(chǎn)銷售;晶盛機電則在晶體生長設備見長,近日該公司表示,公司已成功生長出行業(yè)領(lǐng)先的8英寸碳化硅晶體,并建設了6英寸碳化硅晶體生長、切片、拋光環(huán)節(jié)的研發(fā)實驗線。60hesmc

此外,未上市與申請上市中的屹唐半導體、上海微電子也值得關(guān)注。屹唐半導體憑借較高的全球市占率在全球干法去膠設備市場確立了其國際領(lǐng)先的地位。近日,其通過科創(chuàng)板上市委會議,這意味著其距離上市又進了一步;上海微電子則專攻光刻機,其技術(shù)在中低端領(lǐng)域已達相對較領(lǐng)先水平,產(chǎn)品已實現(xiàn)90nm制程覆蓋。60hesmc

在眾多設備領(lǐng)域中,光刻機可以說是我國半導體設備的薄弱之地,除了上述的上海微電子外,我國還有華卓精科和國科精密等可以生產(chǎn)光刻機零部件??傮w來講,我國光刻機水平與光刻機巨頭ASML、佳能、尼康差距較大。當代光刻機代表著芯片性能的先進性,其是我國實現(xiàn)高科技發(fā)展自主可控的關(guān)鍵因素之一,因此在該領(lǐng)域取得技術(shù)突破是我國未來半導體發(fā)展的必然舉措。60hesmc

目前,我國半導體設備市場依舊非常依賴進口,較多設備企業(yè)仍在單一細分市場上集中度較高。但值得關(guān)注的是,國內(nèi)已有部分企業(yè)正依托于主營業(yè)務的發(fā)展在橫向拓展業(yè)務范圍,向平臺型企業(yè)轉(zhuǎn)型。60hesmc

建設平臺型廠商是設備廠商發(fā)展的潮流趨向,國際前五大廠商中應用材料、泛林半導體、東京電子均為平臺型廠商,其涉足領(lǐng)域涵蓋刻蝕、薄膜、清洗、離子注入等多方面,實力不言而喻。而以前道設備大類統(tǒng)計,目前我國半導體設備廠商產(chǎn)品覆蓋度較高的廠商主要有北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海、屹唐半導體等。60hesmc

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其中北方華創(chuàng)作為我國較為成熟的平臺型企業(yè),產(chǎn)品覆蓋了薄膜沉積設備、刻蝕設備、清洗機、氧化擴散爐等,國產(chǎn)化率在近年顯著上升。此外,還有中微公司從刻蝕及化合物半導體外延設備延展到集成電路薄膜設備;萬業(yè)企業(yè)從離子注入設備延展到其嘉芯半導體子公司,覆蓋除光刻機之外的幾乎全部前道大類;盛美上海從清洗,電鍍等業(yè)務逐步覆蓋,爐管,沉積及其他前道品類;屹唐半導體從干法去膠設備向快速熱處理設備、干法刻蝕設備其他工藝段設備發(fā)展等等。60hesmc

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觀招標中標數(shù)據(jù)60hesmc

設備廠商景氣度還能持續(xù)多久?60hesmc

國內(nèi)設備市場的景氣度直接反映在設備招標中標數(shù)據(jù)上,通過對中國國際招標網(wǎng)招標情況進行梳理,可明顯發(fā)現(xiàn)國內(nèi)設備國產(chǎn)化率有所提高。但近期受到下游消費市場驅(qū)動力不足影響,晶圓制造廠的資本開支計劃有所放緩,近兩個月的設備招標中標節(jié)奏也有所放緩。60hesmc

據(jù)全球半導體觀察根據(jù)公開信息不完全統(tǒng)計,2022年1—8月我國主要晶圓廠共開標906臺工藝設備。按照不同工藝設備開標數(shù)量從高到低排列,前五名分別爐管設備(165臺)、薄膜沉積設備(152臺)、刻蝕設備(103臺)、清洗設備(100臺)、前道檢測設備(80臺)。其中,上海積塔半導體、華虹半導體、燕東微電子、杭州積海半導體這四家企業(yè)招標設備數(shù)量較多。60hesmc

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而結(jié)合中標數(shù)據(jù)看,2022 年上半年我國主要設備廠共中標469臺工藝設備。前五名分別為清洗設備(113臺)、刻蝕設備(97臺)、薄膜沉積設備(47臺)、爐管(45臺)、涂膠顯影設備(36臺)。中標較多的國內(nèi)廠商為北方華創(chuàng)、中微公司、拓荊科技、芯源微、盛美上海、嘉芯半導體。60hesmc

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綜合數(shù)據(jù)看,國內(nèi)設備廠商在薄膜沉積、刻蝕、濕法清洗、涂膠顯影等環(huán)節(jié)上占據(jù)優(yōu)勢。其中,在刻蝕設備上,北方華創(chuàng)和中微公司上半年合計中標超70臺,遠超泛林半導體與東京電子總和。根據(jù)此前中微公司創(chuàng)始人尹志堯預計,在刻蝕設備領(lǐng)域,未來國產(chǎn)率有望達到50%。60hesmc

此外結(jié)合國內(nèi)晶圓廠建設以及設備開標數(shù)據(jù)看,國內(nèi)企業(yè)越來越重視本土半導體產(chǎn)業(yè)鏈安全的搭建,近兩年產(chǎn)業(yè)鏈上下游之間的聯(lián)系愈發(fā)緊密,隨著本土晶圓廠的持續(xù)擴建,本土設備廠商國產(chǎn)化率有望持續(xù)提高,景氣度依舊。60hesmc

總體來看,我國設備廠商在近兩年迎來了發(fā)展的黃金時期,在薄膜沉積、刻蝕、清洗、涂膠顯影、拋光等領(lǐng)域多點開花,國產(chǎn)化率有所上升,并帶動了零部件在內(nèi)的相關(guān)產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。60hesmc

結(jié) 語60hesmc

總體來看,全球半導體市場正步入下行周期,下游市場需求萎縮明顯,低迷期還將持續(xù)一段時間。60hesmc

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從全球視野看,中游制造晶圓擴張大趨勢不變,國際設備廠商對于未來一年內(nèi)發(fā)展預期看好。但回歸本土市場,我國半導體設備企業(yè)的高速發(fā)展十分需要國內(nèi)市場上下游產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同支持發(fā)展,當下正值國產(chǎn)替代的關(guān)鍵期,本土設備廠商更需要嚴陣以待。60hesmc

高技術(shù)壁壘驗證了那句“有技術(shù)便不怕餓死”的老話,當下全球設備廠商競爭激烈,本土設備廠商要想脫穎而出更需要加強研發(fā),發(fā)力技術(shù)才能贏取更廣大的市場。60hesmc

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責編:Elaine
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