針對荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供貨商艾司摩爾(ASML Holdings NV)售出15臺極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)給一家神秘美國買家的新聞，業(yè)界分析師們分別提出了不同的反應(yīng)與看法。雖然很少有人懷疑英特爾(Intel)就是買家，但這項交易的條款以及EUV是否為半導(dǎo)體制造準備就緒等細節(jié)仍不明朗。 EUV微影技術(shù)雖然已經(jīng)用了幾十年了，由于存在光源不足的缺陷，至今仍無法提供制造先進芯片所需的良率與產(chǎn)能。ASML長久以來已經(jīng)在這方面發(fā)布了幾次重要的系統(tǒng)升級，但最近的進展仍遠低于生產(chǎn)目標。 就在去年秋天的英特爾開發(fā)者論壇(IDF)上，英特爾院士Mark Bohr表示，EUV“尚未準備就緒，其產(chǎn)能與可靠性都還未能到位?！? Mark Bohr當時表示，英特爾正著眼于一種無需使用EUV的方法，能夠在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即針對10nm工藝發(fā)表相同的看法，不過，該公司尚未對于7nm與10nm工藝節(jié)點透露更多細節(jié)。 有的分析師認為英特爾就是ASML新聞發(fā)布中所提到的美國現(xiàn)有客戶。不過，根據(jù)另一位分析師推測，這會是一項長期的交易，因為在15臺EUV系統(tǒng)中有10臺要到2017年以后才能出貨。根據(jù)分析師指出，這項交易已經(jīng)讓ASML的股價上漲15%了。 其他分析師也采取更樂觀的看法。“對于英特爾來說，要在10nm節(jié)點利用EUV為時已晚，目前的時機似乎更適合用于7nm，”Real World Technologies首席分析師Daid Kanter表示。 “這是對于ASML投下信心的一票，從這項訂單的規(guī)模可看出，EUV即將進入大量生產(chǎn)；以往的交易通常只買一兩臺機器，主要用于實驗?zāi)康?，”Kanter說，“而英特爾購買EUV可望促進其他競爭對手如三星(Samsung)、Globalfoundries與臺積電(TSMC)在不久的將來盡快進行系統(tǒng)升級，”他補充說。 然而，Kanter提醒，實際的銷售交易仍然取決于EUV是否能符合性能目標。此外，他并補充說，EUV系統(tǒng)能否達到內(nèi)存制造商更嚴峻的成本目標，一切也還是個未知數(shù)。 今年稍早，臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統(tǒng)，在24小時內(nèi)曝光1,000片晶圓。該公司預(yù)計在7nm工藝節(jié)點時使用EUV，但在10nm生產(chǎn)開始后也將嘗試導(dǎo)入于其10nm工藝中。這項新的EUV交易顯示英特爾可能也打算采取類似的計劃。 無疑地，EUV是業(yè)界主要的候選技術(shù)，它能夠避免當今193nm浸潤式微影系統(tǒng)利用多種圖形化步驟帶來的高成本。然而，除了與光源有關(guān)的問題以外，EUV仍然面臨光阻劑、光罩偵測、密度與防護膜等障礙。 本文為《國際電子商情》原創(chuàng)，版權(quán)所有，謝絕轉(zhuǎn)載